Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1997
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年代:1997
 
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51. Atomic hydrogen concentration in a diamond depositing dc arcjet determined by calorimetry
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  12,   1997,   Page  8052-8056

W. Juchmann,   J. Luque,   J. B. Jeffries,  

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52. Influence of a surface film on conducting particles on the electrorheological response with alternating current fields
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  12,   1997,   Page  8057-8063

C. W. Wu,   H. Conrad,  

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53. Effects of evanescent modes and subband mixing in resonant tunneling transistors
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  12,   1997,   Page  8064-8073

Chomsik Lee,   Mark H. Weichold,  

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54. Model for the quasineutral region capacitance ofp/njunction devices
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  12,   1997,   Page  8074-8078

J. J. Liou,   J. Xue,   X. Cao,   W. Zhou,  

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55. Hole confinement and mobility in heterostructure Si/Ge/Sip-channel metal–oxide–semiconductor field effect transistors
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  12,   1997,   Page  8079-8083

B. R. Cyca,   K. G. Robins,   N. G. Tarr,   D. X. Xu,   J.-P. Noel,   D. Landheer,   M. Simard-Normandin,  

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56. Temperature dependent leakage currents in polycrystalline silicon thin film transistors
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  12,   1997,   Page  8084-8090

Chul Ha Kim,   Ki-Soo Sohn,   Jin Jang,  

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57. Parametric resonance in superconducting micron-scale waveguides
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  12,   1997,   Page  8091-8096

N. V. Fomin,   O. L. Shalaev,   D. V. Shantsev,  

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58. Interference phenomenon determines the color in an organic light emitting diode
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  12,   1997,   Page  8097-8104

Thomas Granlund,   Leif A. A. Pettersson,   Mats R. Anderson,   Olle Ingana¨s,  

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59. New type of active device based on galvanomagnetic effect
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  12,   1997,   Page  8105-8108

K. Kakuno,  

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60. Diffusion of near surface defects during the thermal oxidation of silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  12,   1997,   Page  8109-8111

J.-J. Ganem,   I. Trimaille,   P. Andre´,   S. Rigo,   F. C. Stedile,   I. J. R. Baumvol,  

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