Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1986
当前卷期:Volume 60  issue 8     [ 查看所有卷期 ]

年代:1986
 
     Volume 59  issue 1   
     Volume 59  issue 2   
     Volume 59  issue 3   
     Volume 59  issue 4   
     Volume 59  issue 5   
     Volume 59  issue 6   
     Volume 59  issue 7   
     Volume 59  issue 8   
     Volume 59  issue 9   
     Volume 59  issue 10   
     Volume 59  issue 11   
     Volume 59  issue 12   
     Volume 60  issue 1   
     Volume 60  issue 2   
     Volume 60  issue 3   
     Volume 60  issue 4   
     Volume 60  issue 5   
     Volume 60  issue 6   
     Volume 60  issue 7   
     Volume 60  issue 8
     Volume 60  issue 9   
     Volume 60  issue 10   
     Volume 60  issue 11   
     Volume 60  issue 12   
51. The structural and compositional characterization of InSb films prepared by metalorganic magnetron sputtering
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  8,   1986,   Page  2949-2953

J. B. Webb,   C. Halpin,   J. P. Noad,  

Preview   |   PDF (467KB)

52. High‐resolution imaging of the EL2 distribution in thin semi‐insulating GaAs wafers: A comparison with x‐ray topography
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  8,   1986,   Page  2954-2958

H. Ch. Alt,   G. Packeiser,  

Preview   |   PDF (481KB)

53. Oxidation behavior of nitrogen‐ion implanted Fe50Ni50alloy: A conversion electron Mo¨ssbauer spectroscopic study
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  8,   1986,   Page  2959-2965

Y. S. Dorik,   S. M. Chaudhari,   S. V. Ghaisas,   S. B. Ogale,   V. G. Bhide,  

Preview   |   PDF (634KB)

54. Application of the Bergman–Milton theory of bounds to the permittivity of rocks
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  8,   1986,   Page  2966-2976

J. Korringa,   G. A. LaTorraca,  

Preview   |   PDF (704KB)

55. Selected‐area liquid‐phase epitaxy of iron garnet films applying local ion implantation of the substrate
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  8,   1986,   Page  2977-2979

B. Strocka,  

Preview   |   PDF (240KB)

56. Comment on ‘‘Misfit stress in InGaAs/InP heteroepitaxial structures grown by vapor‐phase epitaxy’’ [J. Appl. Phys.57, 249 (1985)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  8,   1986,   Page  2980-2981

I. C. Noyan,   Armin Segmu¨ller,  

Preview   |   PDF (152KB)

57. More on focus wave modes in Maxwell equations
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  8,   1986,   Page  2981-2982

P. Hillion,  

Preview   |   PDF (159KB)

58. Spin reorientation in NdDyFe14B
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  8,   1986,   Page  2982-2984

W. B. Yelon,   B. Foley,   C. Abache,   H. Oesterreicher,  

Preview   |   PDF (229KB)

59. Measurements of the lifetime of the rubyR1line under high pressure
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  8,   1986,   Page  2985-2987

Yosiko Sato‐Sorensen,  

Preview   |   PDF (285KB)

60. Silicon‐to‐silicon direct bonding method
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  8,   1986,   Page  2987-2989

M. Shimbo,   K. Furukawa,   K. Fukuda,   K. Tanzawa,  

Preview   |   PDF (258KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第6页 共64条