Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1985
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年代:1985
 
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51. Metal film deposition by gas‐phase laser pyrolysis of nickel tetracarbonyl
  Journal of Applied Physics,   Volume  58,   Issue  3,   1985,   Page  1400-1401

T. R. Jervis,  

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52. High‐field electron drift velocity measurements in gallium phosphide
  Journal of Applied Physics,   Volume  58,   Issue  3,   1985,   Page  1402-1403

R. H. Johnson,   O. Eknoyan,  

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53. Comparative study of radiotracer and secondary‐ion mass spectrometry profiling of gold diffused CdxHg1−xTe
  Journal of Applied Physics,   Volume  58,   Issue  3,   1985,   Page  1404-1406

H. D. Palfrey,   G. W. Blackmore,   S. J. Courtney,  

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54. Electron‐beam‐induced current investigations of oxygen precipitates in silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  58,   Issue  3,   1985,   Page  1407-1409

A. Jakubowicz,   H.‐U. Habermeier,  

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55. Effect of alloy clustering on the high‐temperature electron mobility in In1−xGaxAsyP1−y
  Journal of Applied Physics,   Volume  58,   Issue  3,   1985,   Page  1410-1411

Pallab K. Bhattacharya,   Joseph W. Ku,  

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56. Formation of Pt silicides: The effect of oxygen
  Journal of Applied Physics,   Volume  58,   Issue  3,   1985,   Page  1412-1414

Chin‐An Chang,  

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57. Chemical beam epitaxy of InGaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  58,   Issue  3,   1985,   Page  1415-1418

W. T. Tsang,  

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58. Dual field effect on liquid‐crystal molecular relaxation
  Journal of Applied Physics,   Volume  58,   Issue  3,   1985,   Page  1419-1422

Shin‐Tson Wu,  

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