Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1986
当前卷期:Volume 60  issue 10     [ 查看所有卷期 ]

年代:1986
 
     Volume 59  issue 1   
     Volume 59  issue 2   
     Volume 59  issue 3   
     Volume 59  issue 4   
     Volume 59  issue 5   
     Volume 59  issue 6   
     Volume 59  issue 7   
     Volume 59  issue 8   
     Volume 59  issue 9   
     Volume 59  issue 10   
     Volume 59  issue 11   
     Volume 59  issue 12   
     Volume 60  issue 1   
     Volume 60  issue 2   
     Volume 60  issue 3   
     Volume 60  issue 4   
     Volume 60  issue 5   
     Volume 60  issue 6   
     Volume 60  issue 7   
     Volume 60  issue 8   
     Volume 60  issue 9   
     Volume 60  issue 10
     Volume 60  issue 11   
     Volume 60  issue 12   
51. Acousto‐optic interaction efficiency in Ti:LiNbO3waveguide collinear Bragg diffraction cell
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  10,   1986,   Page  3720-3723

F. Palma,   L. Schirone,  

Preview   |   PDF (253KB)

52. Spectroscopic ellipsometry study of glow‐discharge‐deposited thin films ofa‐Ge:H
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  10,   1986,   Page  3724-3731

J. R. Blanco,   P. J. McMarr,   K. Vedam,   R. C. Ross,  

Preview   |   PDF (638KB)

53. A novel phased array acousto‐optic Bragg cell
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  10,   1986,   Page  3732-3734

T. S. Chen,   S. K. Yao,  

Preview   |   PDF (194KB)

54. Photoluminescence studies of defects and impurities in annealed GaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  10,   1986,   Page  3735-3745

J. van de Ven,   W. J. A. M. Hartmann,   L. J. Giling,  

Preview   |   PDF (980KB)

55. A time‐of‐flight study of the neutral species produced by nanosecond laser etching of CuCl at 308 nm
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  10,   1986,   Page  3746-3749

G. N. A. van Veen,   T. Baller,   A. E. de Vries,  

Preview   |   PDF (329KB)

56. Reaction chemistry at the Si (100) surface—control through active‐site manipulation
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  10,   1986,   Page  3750-3754

M. J. Bozack,   W. J. Choyke,   L. Muehlhoff,   J. T. Yates,  

Preview   |   PDF (393KB)

57. Photoresponse of asymmetrically doped GaAs‐AlAs heterostructures under external bias
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  10,   1986,   Page  3755-3758

T. K. Woodward,   T. C. McGill,   R. D. Burnham,  

Preview   |   PDF (332KB)

58. Effects of emitter‐base junction gradation on the minority‐carrier transport in the base region of bipolar junction transistors
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  10,   1986,   Page  3759-3764

K. Sukulal,   K. N. Bhat,  

Preview   |   PDF (406KB)

59. Studies of stress compensated quartz resonators with ultralinear frequency‐temperature responses
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  10,   1986,   Page  3765-3771

Mitsuo Nakazawa,   Arthur Ballato,   Theodore Lukaszek,  

Preview   |   PDF (471KB)

60. Nuclear magnetic resonance imaging of temperature profiles
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  10,   1986,   Page  3772-3773

Bryan H. Suits,   David White,  

Preview   |   PDF (165KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第6页 共70条