Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1990
当前卷期:Volume 68  issue 1     [ 查看所有卷期 ]

年代:1990
 
     Volume 67  issue 1   
     Volume 67  issue 2   
     Volume 67  issue 3   
     Volume 67  issue 4   
     Volume 67  issue 5   
     Volume 67  issue 6   
     Volume 67  issue 7   
     Volume 67  issue 8   
     Volume 67  issue 9   
     Volume 67  issue 10   
     Volume 67  issue 11   
     Volume 67  issue 12   
     Volume 68  issue 1
     Volume 68  issue 2   
     Volume 68  issue 3   
     Volume 68  issue 4   
     Volume 68  issue 5   
     Volume 68  issue 6   
     Volume 68  issue 7   
     Volume 68  issue 8   
     Volume 68  issue 9   
     Volume 68  issue 10   
     Volume 68  issue 11   
     Volume 68  issue 12   
51. Target magnetic‐field effects on deposition rate in rf magnetron sputtering
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  1,   1990,   Page  304-310

Akinori Furuya,   Shigeru Hirono,  

Preview   |   PDF (758KB)

52. Multiphoton ionization spectroscopy measurements of silicon atoms during vapor‐phase synthesis of ceramic particles
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  1,   1990,   Page  311-317

Michael R. Zachariah,   Richard G. Joklik,  

Preview   |   PDF (736KB)

53. Modeling of electron‐beam‐controlled semiconductor switches
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  1,   1990,   Page  318-323

R. P. Brinkmann,  

Preview   |   PDF (694KB)

54. Operating conventional electronic devices in the noninstantaneous multiplication (amplification) regime
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  1,   1990,   Page  324-327

R. P. Jindal,  

Preview   |   PDF (457KB)

55. Stress distribution in an aluminum interconnect of very large scale integration
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  1,   1990,   Page  328-333

H. Niwa,   H. Yagi,   H. Tsuchikawa,   Masaharu Kato,  

Preview   |   PDF (613KB)

56. Diffusional relaxation and void growth in an aluminum interconnect of very large scale integration
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  1,   1990,   Page  334-338

Masaharu Kato,   H. Niwa,   H. Yagi,   H. Tsuchikawa,  

Preview   |   PDF (576KB)

57. Polarization currents in varistors
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  1,   1990,   Page  339-346

F. A. Modine,   R. W. Major,   S. I. Choi,   L. B. Bergman,   M. N. Silver,  

Preview   |   PDF (899KB)

58. The relation of the performance characteristics of pseudomorphic In0.53+xGa0.47−xAs/In0.52Al0.48As (0≤x≤0.32) modulation‐doped field‐effect transistors to molecular‐beam epitaxial growth modes
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  1,   1990,   Page  347-350

J. Pamulapati,   R. Lai,   G. I. Ng,   Y. C. Chen,   P. R. Berger,   P. K. Bhattacharya,   J. Singh,   D. Pavlidis,  

Preview   |   PDF (491KB)

59. Oxidation‐induced substrate strain in advanced silicon integrated‐circuit fabrication
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  1,   1990,   Page  351-355

S. R. Stiffler,  

Preview   |   PDF (604KB)

60. Shock wave decay and spall strength in laser‐matter interaction
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  1,   1990,   Page  356-358

S. Eliezer,   Y. Gazit,   I. Gilath,  

Preview   |   PDF (348KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第6页 共68条