Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1962
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年代:1962
 
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51. Effect of Temperature and Air Humidity on the Photostimulated Exoelectron Emission from Oxide Films on Aluminum
  Journal of Applied Physics,   Volume  33,   Issue  7,   1962,   Page  2393-2394

Tadeusz Lewowski,  

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52. Hall Effect in Single‐Crystal TiC
  Journal of Applied Physics,   Volume  33,   Issue  7,   1962,   Page  2394-2395

John Piper,  

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53. A Method for Measuring the Thickness of Epitaxial Silicon Films
  Journal of Applied Physics,   Volume  33,   Issue  7,   1962,   Page  2395-2396

William C. Dash,  

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54. Structure in the Excess Current Region of Gallium Arsenide Tunnel Diodes
  Journal of Applied Physics,   Volume  33,   Issue  7,   1962,   Page  2396-2397

R. W. Hamaker,   H. F. Quinn,  

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55. Very Low Offset Hall Probe
  Journal of Applied Physics,   Volume  33,   Issue  7,   1962,   Page  2397-2397

H. Roth,   W. D. Straub,  

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56. A Method for the Study of Nonuniform Conservative Linear Systems
  Journal of Applied Physics,   Volume  33,   Issue  7,   1962,   Page  2398-2399

M. C. Pease,  

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57. Erratum: Diffusion of Au and Cu in a Temperature Gradient
  Journal of Applied Physics,   Volume  33,   Issue  7,   1962,   Page  2399-2399

C. J. Meechan,   Guy W. Lehman,  

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58. Erratum: Growth from the Melt. III. Dendritic Growth
  Journal of Applied Physics,   Volume  33,   Issue  7,   1962,   Page  2400-2400

G. F. Bolling,   W. A. Tiller,  

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