Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1996
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年代:1996
 
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51. Structural and optical characterization of InAs/InGaAs self‐assembled quantum dots grown on (311)BGaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3466-3470

Kenichi Nishi,   Richard Mirin,   Devin Leonard,   Gilberto Medeiros‐Ribeiro,   Pierre M. Petroff,   Arthur C. Gossard,  

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52. Valence hole subbands and optical gain spectra of GaN/Ga1−xAlxN strained quantum wells
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3471-3478

W. J. Fan,   M. F. Li,   T. C. Chong,   J. B. Xia,  

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53. Optical constants of tetragonal and cubic zirconias in the infrared
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3479-3483

C. Pecharroma´n,   M. Ocan˜a,   C. J. Serna,  

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54. Electron density effects in the modulation spectroscopy of strained and lattice‐matched InGaAs/InAlAs/InP high‐electron‐mobility transistor structures
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3484-3487

A. Dimoulas,   J. Davidow,   K. P. Giapis,   A. Georgakilas,   G. Halkias,   N. Kornelios,  

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55. Microwave properties and strain‐induced lattice defects ofc‐axis‐oriented YBa2Cu3O7−&dgr;thin films on silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3488-3492

C. Jaekel,   G. Kyas,   H. G. Roskos,   H. Kurz,   B. Kabius,   D. Meertens,   W. Prusseit,   B. Utz,  

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56. Photoexcited states ofDXcenters in Si doped AlxGa1−xAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3493-3503

Y. B. Jia,   H. G. Grimmeiss,  

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57. Nitrogen doping concentration as determined by photoluminescence in 4H– and 6H–SiC
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3504-3508

I. G. Ivanov,   C. Hallin,   A. Henry,   O. Kordina,   E. Janze´n,  

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58. Low‐temperature photoluminescence of detector grade Cd1−xZnxTe crystal treated by different chemical etchants
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3509-3512

H. Chen,   J. Tong,   Z. Hu,   D. T. Shi,   G. H. Wu,   K.‐T. Chen,   M. A. George,   W. E. Collins,   A. Burger,   R. B. James,   C. M. Stahle,   L. M. Bartlett,  

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59. Visible photoluminescence from Si clusters in &ggr;‐irradiated amorphous SiO2
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3513-3517

Hiroyuki Nishikawa,   Eiki Watanabe,   Daisuke Ito,   Yuryo Sakurai,   Kaya Nagasawa,   Yoshimichi Ohki,  

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60. Correlation between the radiation‐induced intrinsic 4.8 eV optical absorption and 1.9 eV photoluminescence bands in glassy SiO2
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3518-3525

L. Skuja,   K. Tanimura,   N. Itoh,  

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