Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1990
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年代:1990
 
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51. The general relaxation time distribution of a logarithmic capacitance transient
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  7,   1990,   Page  3529-3530

P. Roura,  

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52. High‐temperature stability of platinum silicide associated with fluorine implantation
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  7,   1990,   Page  3530-3533

Jiunn‐Yann Tsai,   Bing‐Yue Tsui,   Mao‐Chieh Chen,  

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53. Optical absorption in In0.72Ga0.28As0.60P0.40:Ge
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  7,   1990,   Page  3533-3535

R. Rajalakshmi,   B. M. Arora,  

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54. The change of electrical conduction in the valence/conduction band to the impurity band in CdSexTe1−xthin films
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  7,   1990,   Page  3536-3538

P. J. Sebastian,   V. Sivaramakrishnan,  

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55. Infrared study of Fe‐B‐pair behavior in iron‐implanted Czochralski silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  7,   1990,   Page  3538-3541

M. Geddo,   B. Pivac,   A. Borghesi,   A. Stella,   S. U. Campisano,   E. Rimini,  

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56. Depth uniformity of electrical properties and doping limitation in neutron‐transmutation‐doped semi‐insulating GaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  7,   1990,   Page  3542-3544

M. Satoh,   K. Kuriyama,   T. Kawakubo,  

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