Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1991
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年代:1991
 
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51. Comment on ‘‘High‐detectivity GaAs quantum‐well infrared detectors with peak responsivity at 8.2 &mgr;m’’
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  7,   1991,   Page  4129-4129

W. A. Beck,  

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52. Reply to ‘‘Comment on ‘High‐detectivity GaAs quantum‐well infrared detectors with peak responsivity at 8.2 &mgr;m’ ’’
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  7,   1991,   Page  4130-4131

B. K. Janousek,   M. J. Daugherty,   W. L. Bloss,   R. Lacoe,   M. J. O’Loughlin,   H. Kanter,   F. J. De Luccia,   L. E. Perry,  

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53. On the intrinsic bistability in resonant tunneling structures: Observation of area dependence of hysteresis
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  7,   1991,   Page  4132-4134

J. G. Chen,   C. H. Yang,   R. A. Wilson,  

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54. Plasma‐grooved, buried contact silicon solar cells
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  7,   1991,   Page  4135-4136

C. M. Chong,   K. E. Davies,   S. R. Wenham,   M. Gross,   C. M. Horwitz,   M. A. Green,  

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55. On the proximity effect between normal metals and cuprate superconductors
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  7,   1991,   Page  4137-4139

G. Deutscher,   R. W. Simon,  

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56. Point defect concentrations in InGaAsP quaternary alloys
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  7,   1991,   Page  4140-4142

Masaya Ichimura,   Takao Wada,  

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57. Measurement of kappa in highTcsuperconductors
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  7,   1991,   Page  4143-4145

R. Karim,   H. How,   C. Vittoria,   A. Widom,  

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58. Determination of the coherence length in high‐mobility semiconductor‐coupled Josephson weak links
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  7,   1991,   Page  4146-4148

A. W. Kleinsasser,  

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59. Electrical characterization ofp‐type ZnSe:Li epilayers grown onp+‐GaAs by molecular‐beam epitaxy
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  7,   1991,   Page  4149-4151

T. Marshall,   D. A. Cammack,  

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60. Erratum:‘‘Focused ion beam stimulated deposition of aluminum from trialkylamine alanes’’ [J. Appl. Phys.68, 4820 (1990)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  7,   1991,   Page  4152-4152

M. E. Gross,   L. R. Harriott,   R. L. Opila,  

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