Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1992
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年代:1992
 
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51. Low‐pressure chemical vapor deposition of copper: Dependence of the selectivity on the water vapor added to a hydrogen or helium carrier gas
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  5,   1992,   Page  2022-2026

B. Lecohier,   B. Calpini,   J.‐M. Philippoz,   H. van den Bergh,  

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52. Hydrogenated amorphous carbon films prepared by plasma‐enhanced chemical‐vapor deposition
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  5,   1992,   Page  2027-2035

L. H. Chou,  

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53. Amorphous phase formation and initial interfacial reactions in the platinum/GaAs system
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  5,   1992,   Page  2036-2042

Dae‐Hong Ko,   Robert Sinclair,  

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54. Optimum separate confinement structure for midinfrared HgCdTe heterostructure lasers
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  5,   1992,   Page  2043-2048

Jasprit Singh,   Ricardo Zucca,  

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55. Interstitial supersaturation during oxidation of silicon in steam ambients
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  5,   1992,   Page  2049-2053

Nanseng Jeng,   Scott T. Dunham,  

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56. Effects of temperature and bias on the microstructure of plasma‐deposited amorphous silicon carbide
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  5,   1992,   Page  2054-2056

Hsueh Yi Lu,   Mark A. Petrich,  

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57. Drawing and annealing effects on thermally stimulated currents in polypropylene films
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  5,   1992,   Page  2057-2059

Atushi Baba,   Kazuo Ikezaki,  

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58. A modified theory for electrostatic probe measurements of particle mass flows in dense gas‐solid suspensions
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  5,   1992,   Page  2060-2062

C. Zhu,   S. L. Soo,  

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59. Heavily dopedp‐GaAs grown by low‐pressure organometallic vapor phase epitaxy using liquid CCl4
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  5,   1992,   Page  2063-2065

L. W. Yang,   P. D. Wright,   V. Eu,   Z. H. Lu,   A. Majerfeld,  

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60. X‐ray photoelectron spectroscopy studies ofn‐type bismuth‐modified amorphous thin films of Ge20Se80and As2Se3
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  5,   1992,   Page  2066-2068

Sunil Kumar,   Subhash C. Kashyap,   K. L. Chopra,  

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