Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1971
当前卷期:Volume 42  issue 3     [ 查看所有卷期 ]

年代:1971
 
     Volume 42  issue 1   
     Volume 42  issue 2   
     Volume 42  issue 3
     Volume 42  issue 4   
     Volume 42  issue 5   
     Volume 42  issue 6   
     Volume 42  issue 7   
     Volume 42  issue 8   
     Volume 42  issue 9   
     Volume 42  issue 10   
     Volume 42  issue 11   
     Volume 42  issue 12   
     Volume 42  issue 13   
61. Distribution Coefficient of Boron and Phosphorus in Silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  3,   1971,   Page  1235-1236

H. R. Huff,   T. G. Digges,   O. B. Cecil,  

Preview   |   PDF (174KB)

62. Observation of X‐Ray Diffuse Scattering from Neutron‐Irradiated Silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  3,   1971,   Page  1236-1238

Richard A. Coy,   James E. Thomas,   Thomas O. Baldwin,  

Preview   |   PDF (256KB)

63. Anomalous Behavior of Nitrogen in Pulled GaP Crystals
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  3,   1971,   Page  1238-1239

R. A. Logan,   P. J. Dean,   G. Kaminsky,   H. W. Verleur,  

Preview   |   PDF (188KB)

64. Moire´ Patterns of Ion Implantation by Channeling
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  3,   1971,   Page  1239-1240

A. R. Hutson,  

Preview   |   PDF (213KB)

65. Degeneracy Ratio of Positive to Neutral States of Gold in Germanium
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  3,   1971,   Page  1240-1241

K. L. Ashley,   V. Jayakumar,   R. T. Brown,  

Preview   |   PDF (184KB)

66. Erratum: Excess Velocity Potential of the Platelet Crystal in a Supercooled Melt
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  3,   1971,   Page  1242-1242

Ernest G. Holzmann,  

Preview

首页 上一页 下一页 尾页 第7页 共66条