Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1969
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年代:1969
 
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61. Probe Interferometer Measurement of Electron Density Distribution in a Decaying Hydrogen Plasma
  Journal of Applied Physics,   Volume  40,   Issue  10,   1969,   Page  4209-4210

G. F. Brand,   N. R. Heckenberg,  

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62. A1K X‐Ray Emission Fine Features for Characterizing Al&sngbnd;Cu Films
  Journal of Applied Physics,   Volume  40,   Issue  10,   1969,   Page  4210-4212

William L. Baun,  

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63. Temperature Dependence of Ovshinsky‐Type Devices
  Journal of Applied Physics,   Volume  40,   Issue  10,   1969,   Page  4212-4213

O. E. Wagner,  

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64. Manifestations of Sustained Secondary Electron Emission from Tin Oxide Films
  Journal of Applied Physics,   Volume  40,   Issue  10,   1969,   Page  4213-4214

T. A. Raju,   B. J. Harrell,  

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65. Specific Heat and Heat of Crystallization of Amorphous Germanium
  Journal of Applied Physics,   Volume  40,   Issue  10,   1969,   Page  4214-4215

H. S. Chen,   D. Turnbull,  

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66. Exo‐Electron Emission due to Interaction of Water Vapor with Copper and Nickel Sandblasted with Carborundum
  Journal of Applied Physics,   Volume  40,   Issue  10,   1969,   Page  4215-4217

Y. Momose,  

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67. Anomalous Dendritic Diffusion in Cu&sngbnd;Se Thin‐Film Couples
  Journal of Applied Physics,   Volume  40,   Issue  10,   1969,   Page  4217-4218

D. B. Johnson,   L. C. Brown,  

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68. Morphology of Cu&sngbnd;W and Cu&sngbnd;Mo Films Prepared by Electron‐Beam Co‐Deposition
  Journal of Applied Physics,   Volume  40,   Issue  10,   1969,   Page  4218-4220

Moshe´ Oron,   C. M. Adams,  

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