Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1997
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61. Observation of lasing from photopumped InGaN/GaN heterostructures in an edge emitting configuration
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  4,   1997,   Page  2021-2023

I. K. Shmagin,   J. F. Muth,   R. M. Kolbas,   S. Krishnankutty,   S. Keller,   U. K. Mishra,   S. P. DenBaars,  

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62. Transparent ion intercalation films of Zr–Ce oxide
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  4,   1997,   Page  2024-2026

M. Veszelei,   L. Kullman,   A. Azens,   C. G. Granqvist,   B. Hjo¨rvarsson,  

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63. Amorphization induced by ion mixing in Fe–Mo multilayered films: Correlation with the number of metal layers
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  4,   1997,   Page  2027-2029

Z. J. Zhang,  

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64. Anomalous capacitance–voltage profiles in quantum wells explained by a quantum mechanical model
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  4,   1997,   Page  2030-2032

Sudakshina Kundu,   Dipankar Biswas,   Reshmi Datta,  

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65. The effect of temperature on the resonant tunneling and electric field domain formation in multiple quantum well superlattices
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  4,   1997,   Page  2033-2035

Yuanjian Xu,   Ali Shakouri,   Amnon Yariv,  

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66. Epitaxial structure and magnetic anisotropies of metastable single crystalCo0.70Mn0.30film
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  4,   1997,   Page  2036-2038

H. W. Zhao,   Y. Chen,   W. R. Zhu,   G. S. Dong,   X. F. Jin,   M. Lu,   H. R. Zhai,  

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67. Frequency dependence of the phase transition in Pb(Mg1/3Nb2/3)O3−PbTiO3relaxor ferroelectrics
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  4,   1997,   Page  2039-2041

Jae-Hwan Park,   Kug Sun Hong,   Soon Ja Park,  

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68. Refractive index as a function of photon energy for AlGaAs between 1.2 and 1.8 eV
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  4,   1997,   Page  2042-2043

Y. Kokubo,   I. Ohta,  

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69. Erratum: “Reply to “A Comment on ‘Atomistic models of vacancy-mediated diffusion in silicon’ ’’ ’’ [J. Appl. Phys.79, 7409 (1996)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  81,   Issue  4,   1997,   Page  2044-2044

Scott T. Dunham,  

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