Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1988
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年代:1988
 
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61. Evaluation of crystalline quality of zirconium dioxide films on silicon by means of ion‐beam channeling
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  581-582

Yukio Osaka,   Takeshi Imura,   Yoshiki Nishibayashi,   Fumitaka Nishiyama,  

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62. Image charge focusing of relativistic electron beams
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  583-585

S. Humphries,   Carl B. Ekdahl,  

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63. Transport processes in glasses on electron irradiation
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  586-587

Claude Landron,  

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64. Low‐threshold interrupted‐growth step‐index separate‐confinement heterostructure GaAs/(Al,Ga)As lasers grown by molecular‐beam epitaxy
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  588-590

Martin Pion,   Alisa Specht,   Howard Appelman,   Richard Ebersohl,   David Begley,   Robert Waters,   Thomas Guido,   Susan Stazak,  

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65. Erratum: ‘‘Ferroelectric microdomain reversal at room temperature in lithium niobate’’ [J. Appl. Phys.62, 231 (1987)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  591-591

L. L. Pendergrass,  

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66. Erratum: ‘‘Optimization of the energy resolution of deep level transient spectroscopy’’ [J. Appl. Phys.62, 900 (1987)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  592-592

D. D. Nolte,   E. E. Haller,  

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