Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1986
当前卷期:Volume 60  issue 3     [ 查看所有卷期 ]

年代:1986
 
     Volume 59  issue 1   
     Volume 59  issue 2   
     Volume 59  issue 3   
     Volume 59  issue 4   
     Volume 59  issue 5   
     Volume 59  issue 6   
     Volume 59  issue 7   
     Volume 59  issue 8   
     Volume 59  issue 9   
     Volume 59  issue 10   
     Volume 59  issue 11   
     Volume 59  issue 12   
     Volume 60  issue 1   
     Volume 60  issue 2   
     Volume 60  issue 3
     Volume 60  issue 4   
     Volume 60  issue 5   
     Volume 60  issue 6   
     Volume 60  issue 7   
     Volume 60  issue 8   
     Volume 60  issue 9   
     Volume 60  issue 10   
     Volume 60  issue 11   
     Volume 60  issue 12   
61. A fracture mechanics model of fragmentation
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  3,   1986,   Page  1224-1226

L. A. Glenn,   B. Y. Gommerstadt,   A. Chudnovsky,  

Preview   |   PDF (251KB)

62. Improvements in high‐field superconducting performance of V3Ga by a two‐stage reaction process
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  3,   1986,   Page  1227-1229

T. Takeuchi,   Y. Iijima,   K. Inoue,   K. Tachikawa,  

Preview   |   PDF (261KB)

63. Observation of strain effects and evidence of gallium autodoping in molecular‐beam‐epitaxial ZnSe on (100)GaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  3,   1986,   Page  1229-1232

H. A. Mar,   R. M. Park,  

Preview   |   PDF (333KB)

64. Onset of instability in a pulsed, low‐pressure, high‐current hydrogen discharge
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  3,   1986,   Page  1232-1234

B. M. Penetrante,   E. E. Kunhardt,  

Preview   |   PDF (236KB)

65. Activation energy for electromigration failure in Al–Cu conductor stripes covered with polyimide
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  3,   1986,   Page  1235-1237

J. R. Lloyd,   R. N. Steagall,  

Preview   |   PDF (193KB)

66. Erratum: ‘‘Misfit stress in InGaAs/InP heteroepitaxial structures grown by vapor‐phase epitaxy’’ [J. Appl. Phys.57, 249 (1985)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  3,   1986,   Page  1238-1238

S. N. G. Chu,   A. T. Macrander,   K. E. Strege,   W. D. Johnston,  

Preview   |   PDF (32KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第7页 共66条