Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1995
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年代:1995
 
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61. An alternative approach to giant magnetoimpedance phenomena in amorphous ferromagnetic wires
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  8,   1995,   Page  5189-5191

R. Valenzuela,   M. Knobel,   M. Va´zquez,   A. Hernando,  

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62. Picosecond time‐resolved luminescence of tetracene thin films
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  8,   1995,   Page  5192-5194

A. Wappelt,   A. Bergmann,   A. Napiwotzki,   H. J. Eichler,   H. J. Ju¨pner,   A. Kummrow,   A. Lau,   S. Woggon,  

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63. Time‐resolved energy distribution of F−from pulsed radio frequency discharges
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  8,   1995,   Page  5195-5197

Brian A. Smith,   Lawrence J. Overzet,  

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64. Optical transmissions in metal/insulator (Fe/MgF2) multilayered thin films
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  8,   1995,   Page  5198-5200

M. Nishikawa,   Eiji Kita,   Akira Tasaki,  

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65. A detailed experimental study of the wet oxidation kinetics of AlxGa1−xAs layers
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  8,   1995,   Page  5201-5203

H. Nickel,  

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66. Optical spectroscopy study of the role of Ag in laser ablated YBa2Cu3O7−&dgr;thin films
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  8,   1995,   Page  5204-5205

R. Pinto,   P. R. Apte,   K. P. Adhi,   S. B. Ogale,   D. Kumar,   M. S. Hegde,  

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67. Line shape, linewidth and configuration coordinate diagram of the Cu band (1.21 eV) in InP
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  8,   1995,   Page  5206-5208

D. Pal,   D. N. Bose,  

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68. Theory of optical interband transitions in strained Si1−yCygrown pseudomorphically on Si (001)
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  8,   1995,   Page  5209-5211

Stefan Zollner,  

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69. Ion size effect on normal state resistivity in (R0.8Pr0.2)Ba2Cu3O7−&dgr;(R=Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Tm, and Yb) systems
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  8,   1995,   Page  5212-5214

Y. Chen,   T. S. Lai,   M. K. Wu,   W. Y. Guan,  

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70. Erratum: ‘‘Dissociation kinetics of hydrogen‐passivated (100)Si/SiO2interface defects’’ [J. Appl. Phys.77, 6205 (1995)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  8,   1995,   Page  5215-5215

J. H. Stathis,  

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