Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1988
当前卷期:Volume 64  issue 11     [ 查看所有卷期 ]

年代:1988
 
     Volume 63  issue 1   
     Volume 63  issue 2   
     Volume 63  issue 3   
     Volume 63  issue 4   
     Volume 63  issue 5   
     Volume 63  issue 6   
     Volume 63  issue 7   
     Volume 63  issue 8   
     Volume 63  issue 9   
     Volume 63  issue 10   
     Volume 63  issue 11   
     Volume 63  issue 12   
     Volume 64  issue 1   
     Volume 64  issue 2   
     Volume 64  issue 3   
     Volume 64  issue 4   
     Volume 64  issue 5   
     Volume 64  issue 6   
     Volume 64  issue 7   
     Volume 64  issue 8   
     Volume 64  issue 9   
     Volume 64  issue 10   
     Volume 64  issue 11
     Volume 64  issue 12   
71. Gain‐ and threshold‐current dependence for multiple‐quantum‐well lasers
  Journal of Applied Physics,   Volume  64,   Issue  11,   1988,   Page  6564-6567

J. Z. Wilcox,   G. L. Peterson,   S. Ou,   J. J. Yang,   M. Jansen,   D. Schechter,  

Preview   |   PDF (488KB)

72. Ion‐beam‐induced epitaxial crystallization kinetics in ion implanted GaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  64,   Issue  11,   1988,   Page  6567-6569

S. T. Johnson,   J. S. Williams,   E. Nygren,   R. G. Elliman,  

Preview   |   PDF (366KB)

73. Energy‐gap lowering through mechanical stress on metal‐nitride‐oxide‐silicon structures
  Journal of Applied Physics,   Volume  64,   Issue  11,   1988,   Page  6570-6572

P. Kournettas,   W. Bensch,  

Preview   |   PDF (329KB)

74. Zn diffusion in doped InP: Interstitial charge state and apparent activation energy
  Journal of Applied Physics,   Volume  64,   Issue  11,   1988,   Page  6573-6575

C. Kazmierski,  

Preview   |   PDF (386KB)

75. Al/n‐GaAs Schottky barrier height modified with rare‐earth metal interlayer
  Journal of Applied Physics,   Volume  64,   Issue  11,   1988,   Page  6575-6577

K. Hirose,   H. Tsuda,   T. Mizutani,  

Preview   |   PDF (390KB)

76. Threshold characteristics of epitaxial Al(Ga,As) surface‐emitting lasers with integrated quarter‐wave high reflectors
  Journal of Applied Physics,   Volume  64,   Issue  11,   1988,   Page  6578-6580

P. L. Gourley,   T. J. Drummond,   T. E. Zipperian,   J. L. Reno,   T. A. Plut,  

Preview   |   PDF (399KB)

77. A derivative method for interface state density determination at the silicon‐silicon dioxide interface
  Journal of Applied Physics,   Volume  64,   Issue  11,   1988,   Page  6581-6583

S. C. Vitkavage,   E. A. Irene,  

Preview   |   PDF (312KB)

78. Carrier separation effect in single‐layered‐compensated amorphous silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  64,   Issue  11,   1988,   Page  6583-6585

Jin Jang,   Sung Chul Kim,   Choochon Lee,  

Preview   |   PDF (338KB)

79. Extended four‐photon mixing approach to modulational instability
  Journal of Applied Physics,   Volume  64,   Issue  11,   1988,   Page  6586-6587

Ken‐ichi Kitayama,   Katsunari Okamoto,   Hisao Yoshinaga,  

Preview   |   PDF (257KB)

80. A novel microstructure: Semiconductor‐impregnated porous Vycor glass
  Journal of Applied Physics,   Volume  64,   Issue  11,   1988,   Page  6588-6590

C. A. Huber,   T. E. Huber,  

Preview   |   PDF (382KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第8页 共83条