Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1992
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71. Theoretical study of time‐resolved Raman scattering profiles of hot electrons in semiconductors
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4325-4335

C. Chia,   Otto F. Sankey,   K. T. Tsen,  

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72. Deposition and analysis of lithium niobate and other lithium niobium oxides by rf magnetron sputtering
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4336-4343

Timothy A. Rost,   He Lin,   Thomas A. Rabson,   Robert C. Baumann,   Daniel L. Callahan,  

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73. Temperature measurements of polyimide during KrF excimer laser ablation
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4344-4350

D. P. Brunco,   Michael O. Thompson,   C. E. Otis,   P. M. Goodwin,  

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74. Dry etching of Ti in chlorine containing feeds
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4351-4357

R. d’Agostino,   F. Fracassi,   C. Pacifico,  

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75. Magnetron sputtering of Fe onto GaAs substrates: Energetic bombardment effects
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4358-4365

S. D. Bernstein,   T. Y. Wong,   R. W. Tustison,  

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76. A new maskless selective‐growth process for InP on (100) Si
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4366-4368

G.‐P. Tang,   E. Peiner,   H.‐H. Wehmann,   A. Lubnow,   G. Zwinge,   A. Schlachetzki,   J. Hergeth,  

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77. Carrier injection, transport, and their effects on photoinduced dielectric breakdown in single crystalline paraffin (n‐C36H74)
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4369-4378

H. Neff,   P. Lange,  

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78. Near‐field subwavelength micropattern generation: Pipette guided argon fluoride excimer laser microfabrication
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4379-4383

M. Rudman,   A. Lewis,   A. Mallul,   V. Haviv,   I. Turovets,   A. Shchemelinin,   I. Nebenzahl,  

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79. Negative electron affinity silicon heterojunction photocathodes with alkali antimonide intermediate layers
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4384-4389

Tailiang Guo,  

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80. Quantum thermoelectric effects in resonant tunneling real‐space transfer
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4390-4398

J. M. Bigelow,   J. P. Leburton,  

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