Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1970
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71. Analysis of Radiation‐Enhanced Diffusion of Aluminum in Silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  41,   Issue  1,   1970,   Page  434-436

Tadatsugu Itoh,   Iwao Ohdomari,  

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72. Richardson‐Dushman Equation Monograph
  Journal of Applied Physics,   Volume  41,   Issue  1,   1970,   Page  436-437

Arthur L. Smith,   Roland Breitwieser,  

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73. Competition Effects in a12C16O2&sngbnd;13C16O2Laser
  Journal of Applied Physics,   Volume  41,   Issue  1,   1970,   Page  437-438

W. H. Green,   W. T. Whitney,  

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74. Stimulated Emission of the H2Continuum
  Journal of Applied Physics,   Volume  41,   Issue  1,   1970,   Page  438-439

A. J. Palmer,  

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75. Spin‐Wave Resonance Observations in Thin Films Prepared by Sputtering
  Journal of Applied Physics,   Volume  41,   Issue  1,   1970,   Page  439-440

M. W. Lawrence,  

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76. Erratum: Viscous Drag on Dislocations at High Strain Rates in Copper
  Journal of Applied Physics,   Volume  41,   Issue  1,   1970,   Page  440-440

A. Kumar,   R. G. Kumble,  

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