Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1990
当前卷期:Volume 68  issue 9     [ 查看所有卷期 ]

年代:1990
 
     Volume 67  issue 1   
     Volume 67  issue 2   
     Volume 67  issue 3   
     Volume 67  issue 4   
     Volume 67  issue 5   
     Volume 67  issue 6   
     Volume 67  issue 7   
     Volume 67  issue 8   
     Volume 67  issue 9   
     Volume 67  issue 10   
     Volume 67  issue 11   
     Volume 67  issue 12   
     Volume 68  issue 1   
     Volume 68  issue 2   
     Volume 68  issue 3   
     Volume 68  issue 4   
     Volume 68  issue 5   
     Volume 68  issue 6   
     Volume 68  issue 7   
     Volume 68  issue 8   
     Volume 68  issue 9
     Volume 68  issue 10   
     Volume 68  issue 11   
     Volume 68  issue 12   
71. An all refractory NbN Josephson junction medium scale integrated circuit process
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  9,   1990,   Page  4853-4860

G. L. Kerber,   J. E. Cooper,   H. W. Fry,   G. R. King,   R. S. Morris,   J. W. Spargo,   A. G. Toth,  

Preview   |   PDF (737KB)

72. Analysis of the device performance of quantum interference transistors utilizing ultrasmall semiconductorTstructures
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  9,   1990,   Page  4861-4870

S. Subramaniam,   S. Bandyopadhyay,   W. Porod,  

Preview   |   PDF (815KB)

73. Deposition andinsituannealing of YBa2Cu3O7films on polycrystalline BeO substrates
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  9,   1990,   Page  4871-4872

P. Bernstein,   S. Lamarti,  

Preview   |   PDF (131KB)

74. Reversed magnetic anisotropy in deformed (100) Cu/Ni/Cu structures
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  9,   1990,   Page  4873-4875

Chin‐An Chang,  

Preview   |   PDF (253KB)

75. Preparation and characterization of ultrathin Bi2Sr2CaCu2O8single crystals
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  9,   1990,   Page  4876-4878

L. Forro,   D. Mandrus,   B. Keszei,   L. Mihaly,   R. Reeder,  

Preview   |   PDF (212KB)

76. Optical monitoring of ion beam Y‐Ba‐Cu‐O sputtering
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  9,   1990,   Page  4879-4881

J. D. Klein,   A. Yen,  

Preview   |   PDF (262KB)

77. Spatially resolved differential resistance of bulk superconductors by laser‐induced heating
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  9,   1990,   Page  4882-4884

Robert McLaren,   Norman J. Dovichi,  

Preview   |   PDF (261KB)

78. Kinetic aspects of epitaxial silicon growth using disilane in a rapid thermal processing system
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  9,   1990,   Page  4885-4887

G. Pares,   J. L. Regolini,   J. Mercier,   D. Dutartre,   D. Bensahel,  

Preview   |   PDF (199KB)

79. Parametric study of a radio‐frequency glow discharge using a continuum model
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  9,   1990,   Page  4888-4890

Sang‐Kyu Park,   Demetre J. Economou,  

Preview   |   PDF (241KB)

80. Current‐limiting action of mixed‐phase BaTiO3ceramic semiconductors
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  9,   1990,   Page  4891-4893

V. Ravi,   T. R. N. Kutty,  

Preview   |   PDF (267KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第8页 共85条