Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1992
当前卷期:Volume 72  issue 11     [ 查看所有卷期 ]

年代:1992
 
     Volume 71  issue 1   
     Volume 71  issue 2   
     Volume 71  issue 3   
     Volume 71  issue 4   
     Volume 71  issue 5   
     Volume 71  issue 6   
     Volume 71  issue 7   
     Volume 71  issue 8   
     Volume 71  issue 9   
     Volume 71  issue 10   
     Volume 71  issue 11   
     Volume 71  issue 12   
     Volume 72  issue 1   
     Volume 72  issue 2   
     Volume 72  issue 3   
     Volume 72  issue 4   
     Volume 72  issue 5   
     Volume 72  issue 6   
     Volume 72  issue 7   
     Volume 72  issue 8   
     Volume 72  issue 9   
     Volume 72  issue 10   
     Volume 72  issue 11
     Volume 72  issue 12   
71. Base‐emitter leakage and recombination current in an implant isolated region of a GaAs/AlGaAs heterojunction bipolar transistor
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  11,   1992,   Page  5489-5492

T. Henderson,   B. Bayraktaroglu,  

Preview   |   PDF (416KB)

72. Nonisothermal drift‐diffusion model of avalanche diodes
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  11,   1992,   Page  5493-5495

V. Stoiljkovic´,   M. J. Howes,   V. Postoyalko,  

Preview   |   PDF (359KB)

73. Picosecond YBa2Cu3O7−&dgr;detector for far‐infrared radiation
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  11,   1992,   Page  5496-5499

R. S. Nebosis,   R. Steinke,   P. T. Lang,   W. Schatz,   M. A. Heusinger,   K. F. Renk,   G. N. Gol’tsman,   B. S. Karasik,   A. D. Semenov,   E. M. Gershenzon,  

Preview   |   PDF (456KB)

74. New model for the shock‐induced &agr;‐quartz→stishovite phase transition in silica
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  11,   1992,   Page  5500-5508

J. C. Boettger,  

Preview   |   PDF (1112KB)

75. Carrier removal and defect behavior inp‐type InP
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  11,   1992,   Page  5509-5511

I. Weinberg,   C. K. Swartz,   P. J. Drevinsky,  

Preview   |   PDF (329KB)

76. Effects of BCl3magnetron ion etching on deep levels in GaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  11,   1992,   Page  5512-5513

W. R. Buchwald,   J. H. Zhao,   G. F. McLane,   M. Meyyappan,  

Preview   |   PDF (287KB)

77. Bistability and switching in a native‐oxide‐defined AlxGa1−xAs‐GaAs quantum‐well‐heterostructure laser coupled to a linear array
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  11,   1992,   Page  5514-5516

N. El‐Zein,   N. Holonyak,   F. A. Kish,   S. A. Maranowski,  

Preview   |   PDF (422KB)

78. Rapid thermally processed ferroelectric Bi4Ti3O12thin films
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  11,   1992,   Page  5517-5519

P. C. Joshi,   S. B. Krupanidhi,   Abhai Mansingh,  

Preview   |   PDF (352KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第8页 共78条