Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1996
当前卷期:Volume 79  issue 5     [ 查看所有卷期 ]

年代:1996
 
     Volume 79  issue 1   
     Volume 79  issue 2   
     Volume 79  issue 3   
     Volume 79  issue 4   
     Volume 79  issue 5
     Volume 79  issue 6   
     Volume 79  issue 7   
     Volume 79  issue 8   
     Volume 79  issue 9   
     Volume 79  issue 10   
     Volume 79  issue 11   
     Volume 79  issue 12   
     Volume 80  issue 1   
     Volume 80  issue 2   
     Volume 80  issue 3   
     Volume 80  issue 4   
     Volume 80  issue 5   
     Volume 80  issue 6   
     Volume 80  issue 7   
     Volume 80  issue 8   
     Volume 80  issue 9   
     Volume 80  issue 10   
     Volume 80  issue 11   
     Volume 80  issue 12   
71. Structural and optical characterization of monolayer interfaces in Ga0.47In0.53As/InP multiple quantum wells grown by chemical beam epitaxy
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  5,   1996,   Page  2640-2648

R. Benzaquen,   A. P. Roth,   R. Leonelli,  

Preview   |   PDF (212KB)

72. Interpretation of photocurrent correlation measurements used for ultrafast photoconductive switch characterization
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  5,   1996,   Page  2649-2657

R. H. Jacobsen,   K. Birkelund,   T. Holst,   P. Uhd Jepsen,   S. R. Keiding,  

Preview   |   PDF (191KB)

73. Incorporation and optical activation of erbium in silicon using molecular beam epitaxy
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  5,   1996,   Page  2658-2662

R. Serna,   Jung H. Shin,   M. Lohmeier,   E. Vlieg,   A. Polman,   P. F. A. Alkemade,  

Preview   |   PDF (86KB)

74. Studies of thin strained InAs, AlAs, and AlSb layers by spectroscopic ellipsometry
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  5,   1996,   Page  2663-2674

C. M. Herzinger,   P. G. Snyder,   F. G. Celii,   Y.‐C. Kao,   D. Chow,   B. Johs,   J. A. Woollam,  

Preview   |   PDF (203KB)

75. Photoluminescence studies of band‐edge transitions in GaN epitaxial layers grown by plasma‐assisted molecular beam epitaxy
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  5,   1996,   Page  2675-2683

G. D. Chen,   M. Smith,   J. Y. Lin,   H. X. Jiang,   A. Salvador,   B. N. Sverdlov,   A. Botchkarv,   H. Morkoc,  

Preview   |   PDF (183KB)

76. Luminescence in hydrogenated amorphous carbon films grown by dc saddle‐field glow‐discharge decomposition of methane
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  5,   1996,   Page  2684-2688

F. Gaspari,   R. V. Kruzelecky,   P. K. Lim,   L. S. Sidhu,   S. Zukotynski,  

Preview   |   PDF (90KB)

77. Dynamics of cavitation bubble induced by 193 nm ArF excimer laser in concentrated sodium chloride solutions
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  5,   1996,   Page  2689-2693

Igor Turovets,   Daniel Palanker,   Yu. Kokotov,   Itzhak Hemo,   Aaron Lewis,  

Preview   |   PDF (175KB)

78. Pulse phase infrared thermography
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  5,   1996,   Page  2694-2698

X. Maldague,   S. Marinetti,  

Preview   |   PDF (9218KB)

79. Amorphous and microcrystalline silicon by hot wire chemical vapor deposition
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  5,   1996,   Page  2699-2706

M. Heintze,   R. Zedlitz,   H. N. Wanka,   M. B. Schubert,  

Preview   |   PDF (224KB)

80. Influence of rapid thermal annealing and internal gettering on Czochralski‐grown silicon. I. Oxygen precipitation
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  5,   1996,   Page  2707-2711

C. Maddalon‐Vinante,   E. Ehret,   D. Barbier,  

Preview   |   PDF (102KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第8页 共99条