Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1995
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年代:1995
 
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71. Interfacial Fermi level and surface band bending in Ni/semi‐insulating GaAs contact
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  7,   1995,   Page  4796-4798

T. P. Chen,   Y. C. Liu,   S. Fung,   C. D. Beling,  

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72. On Brewster’s angle of metals
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  7,   1995,   Page  4799-4801

Bernd Hu¨ttner,  

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73. Dissipative electron tunneling from the phosphorus ground level to the conduction band of silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  7,   1995,   Page  4802-4804

A. Dargys,   N. Zˇurauskiene˙,  

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74. On the spatial confinement in energy beam microprocessing
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  7,   1995,   Page  4805-4807

Nikita Arnold,  

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75. Temperature dependence of the minority carrier lifetime in GaAs/AlGaAs double heterostructures
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  7,   1995,   Page  4808-4810

J. P. Bergman,   C. Hallin,   E. Janze´n,  

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76. Comment on ‘‘Transient nucleation in solid‐state crystallization ofa‐Si films’’ [J. Appl. Phys.75, 2884 (1994)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  7,   1995,   Page  4811-4812

Vitaly A. Shneidman,  

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77. Erratum: ‘‘Model of etching profiles for ion energy flux dependent etch rates in a collisionless plasma sheath’’ [J. Appl. Phys.77, 3445 (1995)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  7,   1995,   Page  4813-4813

Barbara Abraham‐Shrauner,   Chungdar Daniel Wang,  

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