Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1971
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年代:1971
 
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71. Theoretical Determination of the Shock States of Porous Copper
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  888-889

David J. O'Keeffe,  

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72. High‐Current Characteristics of Silicon Carbide Varistors
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  889-892

J. Mitchell,   J. Shewchun,  

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73. Spiking in Current‐Modulated cw GaAs External Cavity Lasers
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  892-893

E. P. Harris,  

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74. Direct Piezoelectric Effect in Polyvinylchloride Films
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  893-894

Julius Cohen,   Seymour Edelman,  

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75. Diffraction Pattern of a Slit in a Thick Conducting Screen
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  894-895

S. C. Kashyap,   M. A. K. Hamid,   N. J. Mostowy,  

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76. Collision Measurements by Magnetoplasma Pulse Response
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  895-896

R. L. Bruce,   J. M. Larsen,  

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77. GaAs‐Pumped GaAs Lasers and the Behavior of Band Tails
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  896-897

D. R. Scifres,   N. Holonyak,   P. D. Dapkus,   R. D. Burnham,  

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78. Erratum: Analysis of Electron Trapping in Alumina Using Thermally Stimulated Electrical Currents
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  897-898

Paul S. Pickard,   Monte V. Davis,  

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79. Erratum: Spin‐Scattering and Magnetic Ordering in EuB6
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  898-898

R. Bachmann,   K. N. Lee,   T. H. Geballe,   A. Menth,  

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