Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1996
当前卷期:Volume 80  issue 6     [ 查看所有卷期 ]

年代:1996
 
     Volume 79  issue 1   
     Volume 79  issue 2   
     Volume 79  issue 3   
     Volume 79  issue 4   
     Volume 79  issue 5   
     Volume 79  issue 6   
     Volume 79  issue 7   
     Volume 79  issue 8   
     Volume 79  issue 9   
     Volume 79  issue 10   
     Volume 79  issue 11   
     Volume 79  issue 12   
     Volume 80  issue 1   
     Volume 80  issue 2   
     Volume 80  issue 3   
     Volume 80  issue 4   
     Volume 80  issue 5   
     Volume 80  issue 6
     Volume 80  issue 7   
     Volume 80  issue 8   
     Volume 80  issue 9   
     Volume 80  issue 10   
     Volume 80  issue 11   
     Volume 80  issue 12   
71. Giant microwave magneto‐impedance in a single crystal of La0.7Sr0.3MnO3: The effect of ferromagnetic antiresonance
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3592-3594

S. E. Lofland,   S. M. Bhagat,   S. D. Tyagi,   Y. M. Mukovskii,   S. G. Karabashev,   A. M. Balbashov,  

Preview   |   PDF (103KB)

72. Electron and hole escape times in single quantum wells
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3595-3597

Kevin R. Lefebvre,   A. F. M. Anwar,  

Preview   |   PDF (90KB)

73. Antiphase locking in a two‐dimensional Josephson junction array
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3598-3600

M. Basler,   W. Krech,   K. Yu. Platov,  

Preview   |   PDF (70KB)

74. Photoelectric properties of Copper‐phthalocyanine/PbTe multilayer
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3601-3603

Heayeon Lee,   Tomoji Kawai,  

Preview   |   PDF (85KB)

75. Young’s modulus of amorphous Terfenol‐D thin films
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3604-3606

Q. Su,   J. Morillo,   Y. Wen,   M. Wuttig,  

Preview   |   PDF (63KB)

76. Improvement of the stability of hydrogenated amorphous silicon films by intermittent illumination treatment at elevated temperature
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  6,   1996,   Page  3607-3609

Shuran Sheng,   Guanglin Kong,   Xianbo Liao,  

Preview   |   PDF (70KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第8页 共76条