Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1982
当前卷期:Volume 53  issue 4     [ 查看所有卷期 ]

年代:1982
 
     Volume 53  issue 1   
     Volume 53  issue 2   
     Volume 53  issue 3   
     Volume 53  issue 4
     Volume 53  issue 5   
     Volume 53  issue 6   
     Volume 53  issue 7   
     Volume 53  issue 8   
     Volume 53  issue 9   
     Volume 53  issue 10   
     Volume 53  issue 11   
     Volume 53  issue 12   
71. Chemical sputtering yields of silicon resulting from F+, CFn+ (n= 1,2,3) ion bombardment
  Journal of Applied Physics,   Volume  53,   Issue  4,   1982,   Page  3214-3219

Kiyoshi Miyake,   Shin’ichi Tachi,   Kunihiro Yagi,   Takashi Tokuyama,  

Preview   |   PDF (409KB)

72. The superconducting transition temperature as a probe for ion‐beam induced precipitate dissolution
  Journal of Applied Physics,   Volume  53,   Issue  4,   1982,   Page  3220-3223

A. Hofmann,   P. Ziemann,  

Preview   |   PDF (235KB)

73. Laser treatment of a nonsubstitutional alloy Cr implanted in aluminum
  Journal of Applied Physics,   Volume  53,   Issue  4,   1982,   Page  3224-3230

G. Battaglin,   A. Carnera,   G. Della Mea,   P. Mazzoldi,   E. Jannitti,   Animesh K. Jain,   D. K. Sood,  

Preview   |   PDF (444KB)

74. Investigations of holes machined by laser beam on Al and Cr thin films
  Journal of Applied Physics,   Volume  53,   Issue  4,   1982,   Page  3231-3236

Koichi Yamada,   Isao Watanabe,   Takahiro Kubo,   Masataka Umeno,   Kumayasu Yoshii,   Hideaki Kawabe,  

Preview   |   PDF (480KB)

75. Diffraction efficiency and decay times of free‐carrier gratings in silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  53,   Issue  4,   1982,   Page  3237-3242

H. J. Eichler,   F. Massmann,  

Preview   |   PDF (429KB)

76. Surface resistivity measurements of S1 photocathodes
  Journal of Applied Physics,   Volume  53,   Issue  4,   1982,   Page  3243-3246

X. Hou,   W. Sibbett,   B. Weekley,  

Preview   |   PDF (271KB)

77. Epitaxial growth of Cd‐doped InP from the vapor
  Journal of Applied Physics,   Volume  53,   Issue  4,   1982,   Page  3247-3251

J. Chevrier,   E. Horache,   L. Goldstein,   N. T. Linh,  

Preview   |   PDF (337KB)

78. Growth kinetics of planar binary diffusion couples: ’’Thin‐film case’’ versus ’’bulk cases’’
  Journal of Applied Physics,   Volume  53,   Issue  4,   1982,   Page  3252-3260

U. Go¨sele,   K. N. Tu,  

Preview   |   PDF (751KB)

79. Pulsed laser annealing of rf sputtered amorphous Si‐H films doped with arsenic
  Journal of Applied Physics,   Volume  53,   Issue  4,   1982,   Page  3261-3266

E. Fogarassy,   R. Stuck,   M. Toulemonde,   J. C. Bruyere,   P. Siffert,  

Preview   |   PDF (355KB)

80. Photoemission studies of clean and oxidized Nb and Nb3Sn
  Journal of Applied Physics,   Volume  53,   Issue  4,   1982,   Page  3267-3271

J. N. Miller,   I. Lindau,   P. M. Stefan,   D. L. Weissman,   M. L. Shek,   W. E. Spicer,  

Preview   |   PDF (371KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第8页 共104条