Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1995
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年代:1995
 
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71. Electrical and optical properties of thermally evaporated LiBO2–LiF composite films
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5675-5679

Nguyen Can,   Vo‐Van Truong,  

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72. Insitulaser reflectometry study of the morphology of Ge/GaAs layers during their heteroepitaxial growth
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5680-5685

A. Leycuras,   M. G. Lee,   A. Hausmann,  

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73. Temporal evolution of the physical response during photorefractive grating formation and erasure for BSO
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5686-5690

J. G. Murillo,   L. F. Magan˜a,   M. Carrascosa,   F. Agullo´‐Lo´pez,  

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74. Photoluminescence properties of ZnGa2O4:Mn powder phosphors
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5691-5695

T. K. Tran,   W. Park,   J. W. Tomm,   B. K. Wagner,   S. M. Jacobsen,   C. J. Summers,   P. N. Yocom,   S. K. McClelland,  

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75. Photoluminescence of quaternary GaInAsSb/AlGaAsSb strained multiple quantum wells
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5696-5700

W. Z. Shen,   S. C. Shen,   W. G. Tang,   Y. Zhao,   A. Z. Li,  

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76. Photoemission study of CdS heterojunction formation with binary selenide semiconductors
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5701-5705

Art J. Nelson,  

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77. Thermal anisotropy of polymer carbon fiber composites as revealed by photodeflection methods
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5706-5712

M. Bertolotti,   A. Ferrari,   G. L. Liakhou,   R. Li Voti,   A. Marras,   T. A. Ezquerra,   F. J. Balta‐Calleja,  

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78. Development of highly conductiven‐type &mgr;c‐Si:H films at low power for device applications
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5713-5720

S. C. Saha,   Swati Ray,  

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79. Growth of epitaxial AlN(0001) on Si(111) by reactive magnetron sputter deposition
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5721-5726

I. Ivanov,   L. Hultman,   K. Ja¨rrendahl,   P. Ma˚rtensson,   J.‐E. Sundgren,   B. Hjo¨rvarsson,   J. E. Greene,  

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80. Atomic scale etching processes ofn‐Si(111) in NH4F solutions:In situscanning tunneling microscopy
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5727-5733

Kazutoshi Kaji,   Shueh‐Lin Yau,   Kingo Itaya,  

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