Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1988
当前卷期:Volume 64  issue 11     [ 查看所有卷期 ]

年代:1988
 
     Volume 63  issue 1   
     Volume 63  issue 2   
     Volume 63  issue 3   
     Volume 63  issue 4   
     Volume 63  issue 5   
     Volume 63  issue 6   
     Volume 63  issue 7   
     Volume 63  issue 8   
     Volume 63  issue 9   
     Volume 63  issue 10   
     Volume 63  issue 11   
     Volume 63  issue 12   
     Volume 64  issue 1   
     Volume 64  issue 2   
     Volume 64  issue 3   
     Volume 64  issue 4   
     Volume 64  issue 5   
     Volume 64  issue 6   
     Volume 64  issue 7   
     Volume 64  issue 8   
     Volume 64  issue 9   
     Volume 64  issue 10   
     Volume 64  issue 11
     Volume 64  issue 12   
81. Temperature dependence of photoconductivity and recombination in hydrogenated amorphous silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  64,   Issue  11,   1988,   Page  6591-6593

Jung‐Kee Yoon,   Jin Jang,   Choochon Lee,  

Preview   |   PDF (365KB)

82. Erratum: ‘‘An analytical study of etch and etch‐stop reactions for GaAs on AlGaAs in CCl2F2plasma’’ [J. Appl. Phys.61, 2358 (1987)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  64,   Issue  11,   1988,   Page  6594-6594

K. L. Seaward,   N. J. Moll,   D. J. Coulman,   W. F. Stickle,  

Preview   |   PDF (35KB)

83. Erratum: ‘‘Bloch line influence on wall motion response in thin‐film heads’’ [J. Appl. Phys.63, 4033 (1988)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  64,   Issue  11,   1988,   Page  6595-6597

B. E. Argyle,   B. Petek,   M. E. Re,   F. Suits,   D. A. Herman,  

Preview   |   PDF (406KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第9页 共83条