Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1996
当前卷期:Volume 79  issue 1     [ 查看所有卷期 ]

年代:1996
 
     Volume 79  issue 1
     Volume 79  issue 2   
     Volume 79  issue 3   
     Volume 79  issue 4   
     Volume 79  issue 5   
     Volume 79  issue 6   
     Volume 79  issue 7   
     Volume 79  issue 8   
     Volume 79  issue 9   
     Volume 79  issue 10   
     Volume 79  issue 11   
     Volume 79  issue 12   
     Volume 80  issue 1   
     Volume 80  issue 2   
     Volume 80  issue 3   
     Volume 80  issue 4   
     Volume 80  issue 5   
     Volume 80  issue 6   
     Volume 80  issue 7   
     Volume 80  issue 8   
     Volume 80  issue 9   
     Volume 80  issue 10   
     Volume 80  issue 11   
     Volume 80  issue 12   
81. Design of computationally useful single‐electron digital circuits
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  1,   1996,   Page  526-539

M. G. Ancona,  

Preview   |   PDF (240KB)

82. Effects of In profile on material and device properties of AlGaAs/InGaAs/GaAs high electron mobility transistors
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  1,   1996,   Page  540-544

D. C. Look,   B. Jogai,   R. Kaspi,   J. L. Ebel,   K. R. Evans,   R. L. Jones,   K. Nakano,   R. E. Sherriff,   C. E. Stutz,   G. C. DeSalvo,   C. Ito,  

Preview   |   PDF (118KB)

83. Modeling the electrical characteristics ofn‐channel 6H–SiC junction‐field‐effect transistors as a function of temperature
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  1,   1996,   Page  545-552

F. B. McLean,   C. W. Tipton,   J. M. McGarrity,   C. J. Scozzie,  

Preview   |   PDF (191KB)

84. Magnetic texturing of bulk samples of the superconductor Bi2Sr2Ca0.8Dy0.2Cu2O8−y
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  1,   1996,   Page  553-555

S. Stassen,   A. Rulmont,   Ph. Vanderbemden,   A. Vanderschueren,   Z. Gabelica,   R. Cloots,   M. Ausloos,  

Preview   |   PDF (173KB)

85. Electron paramagnetic resonance of Ni+impurities in AgGaSe2
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  1,   1996,   Page  556-558

L. E. Halliburton,   N. C. Giles,   P. G. Schunemann,   T. M. Pollak,  

Preview   |   PDF (74KB)

86. Suppression of thermally induced reactions at SiO2/single‐crystalline Al interfaces
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  1,   1996,   Page  559-561

Y. Miura,   K. Hirose,  

Preview   |   PDF (476KB)

87. Erratum: ‘‘Inhomogeneous strain relaxation and defect distribution of ZnTe layers deposited on (110)GaAs by metalorganic vapor phase epitaxy’’ [J. Appl. Phys.78, 229 (1995)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  1,   1996,   Page  562-562

N. Lovergine,   F. Liaci,   J.‐D. Ganie`re,   G. Leo,   A. V. Drigo,   F. Romanto,   A. M. Mancini,   L. Vasanelli,  

Preview   |   PDF (6KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第9页 共87条