Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1996
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年代:1996
 
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81. Synchrotron‐radiation‐excited epitaxy of Ge with GeH4
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  12,   1996,   Page  9396-9398

Housei Akazawa,  

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82. Evolution of the texture of TiN films prepared by filtered arc deposition
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  12,   1996,   Page  9399-9401

J. P. Zhao,   X. Wang,   T. S. Shi,   X. H. Liu,  

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83. Comment on ‘‘Three‐dimensional analysis of a heat‐spreading phenomenon in phase‐locked arrays of oxide‐isolated diode lasers’’ [J. Appl. Phys.67, 2711 (1990)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  12,   1996,   Page  9402-9402

A. D. Sadovnikov,  

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84. Reply to ‘‘Comment on three‐dimensional analysis of a heat‐spreading phenomenon in phase‐locked arrays of oxide‐isolated diode lasers’’ [J. Appl. Phys.79, 9402 (1996)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  12,   1996,   Page  9403-9403

Wl&slash;odzimierz Nakwaski,  

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