Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1992
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91. Morphologies of discontinuous gold films on amorphous polymer substrates
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4458-4460

Martin S. Kunz,   Kenneth R. Shull,   Andrew J. Kellock,  

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92. Generation of electron cyclotron resonance plasmas using a circular TE01 mode microwave
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4461-4462

R. Hidaka,   N. Hirotsu,   N. Tanaka,   Y. Kawai,  

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93. (100) metal alloy films containing body‐centered cubic and face‐centered cubic metals: Relation between structures and lattice spacings
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4463-4465

Chin‐An Chang,  

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94. Mechanical properties of epitaxial TiN/(V0.6Nb0.4)N superlattices measured by nanoindentation
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4466-4468

Kevin M. Hubbard,   Thomas R. Jervis,   Paul B. Mirkarimi,   Scott A. Barnett,  

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95. Raman investigation with excitation of various wavelength lasers on porous silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4469-4471

Shu‐Lin Zhang,   Yongtian Hou,   Kuok‐San Ho,   Bidong Qian,   Shengmin Cai,  

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96. Second‐harmonic generation and sum‐frequency mixing of double‐wavelength Nd:YALO3laser to 413.7‐nm violet coherent radiation in LiIO3crystal
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4472-4473

H. Y. Shen,   W. X. Lin,   R. R. Zeng,   Y. P. Zhou,   G. F. Yu,   C. H. Huang,   Z. D. Zeng,   W. J. Zhang,  

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97. Nb‐Al‐AlOx‐Al‐Nb tunnel junctions using electron beam evaporation
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4474-4476

W. Simon,   E. K. Liebemann,   M. Simon,   E. Bucher,  

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98. Strain compensation by Ge in B‐doped silicon epitaxial films
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4477-4479

W. P. Maszara,   T. Thompson,  

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99. Band calculation of antiferromagnetic ground state of K2NiF4
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4480-4482

S. Hatta,   R. V. Kasowski,   W. Y. Hsu,  

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100. Using reverse bias currents to differentiate between bulk degradation and interfacial degradation in hydrogenated amorphous siliconp‐i‐nstructures
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  9,   1992,   Page  4483-4485

J. K. Arch,   S. J. Fonash,  

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