Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1992
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91. Positron annihilation at the Si/SiO2interface
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  1,   1992,   Page  530-532

T. C. Leung,   Z. A. Weinberg,   P. Asoka‐Kumar,   B. Nielsen,   G. W. Rubloff,   K. G. Lynn,  

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92. Fabrication of GaAs quantum wires on epitaxially grown V grooves by metal‐organic chemical‐vapor deposition
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  1,   1992,   Page  533-535

S. Tsukamoto,   Y. Nagamune,   M. Nishioka,   Y. Arakawa,  

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93. Effects of hydrogen on the Schottky barrier of Ti/n‐GaAs diodes
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  1,   1992,   Page  536-538

S. X. Jin,   L. P. Wang,   M. H. Yuan,   J. J. Chen,   Y. Q. Jia,   G. G. Qin,  

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94. Room‐temperature photoluminescence in strained quantum wells of InGaAs/GaAs grown by molecular‐beam epitaxy
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  1,   1992,   Page  539-541

Faustino Martelli,   Maria Grazia Proietti,   Maria Gabriella Simeone,   Maria Rita Bruni,   Marco Zugarini,  

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95. Thin films of Pd/Ni alloys for detection of high hydrogen concentrations
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  1,   1992,   Page  542-544

R. C. Hughes,   W. K. Schubert,  

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96. Erratum: ‘‘Infrared study of the Si—H stretching band ina‐SiC:H’’ [J. Appl. Phys.69, 7805 (1991)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  1,   1992,   Page  545-545

R. R. Koropecki,   F. Alvarez,   R. Arce,  

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