首页   按字顺浏览 期刊浏览 卷期浏览 返回    

Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代：1996
当前卷期：Volume 79  issue 3     [ 查看所有卷期 ]

年代：1996
 
     Volume 79  issue 1   
     Volume 79  issue 2   
     Volume 79  issue 3
     Volume 79  issue 4   
     Volume 79  issue 5   
     Volume 79  issue 6   
     Volume 79  issue 7   
     Volume 79  issue 8   
     Volume 79  issue 9   
     Volume 79  issue 10   
     Volume 79  issue 11   
     Volume 79  issue 12   
     Volume 80  issue 1   
     Volume 80  issue 2   
     Volume 80  issue 3   
     Volume 80  issue 4   
     Volume 80  issue 5   
     Volume 80  issue 6   
     Volume 80  issue 7   
     Volume 80  issue 8   
     Volume 80  issue 9   
     Volume 80  issue 10   
     Volume 80  issue 11   
     Volume 80  issue 12   
91. Erratum: ‘‘Surface‐diffusion and step‐bunching mechanisms of metalorganic vapor‐phase epitaxy studied by high‐vacuum scanning tunneling microscopy’’ [J. Appl. Phys.78, 3026 (1995)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  3,   1996,   Page  1822-1823

Makoto Kasu,   Naoki Kobayashi,  

Preview   |   PDF (695KB)
首页 上一页 下一页 尾页 第10页 共91条