Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1997
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1. Electrodynamic trapping of charged particles in a monopole field
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  11,   1997,   Page  5283-5286

E. Peik,   J. Fletcher,  

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2. Reflective twisted nematic liquid crystal displays. II. Elimination of retardation film and rear polarizer
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  11,   1997,   Page  5287-5294

F. H. Yu,   J. Chen,   S. T. Tang,   H. S. Kwok,  

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3. Light-induced infrared absorption spectra and properties of impurity levels in doped photorefractiveBaTiO3
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  11,   1997,   Page  5295-5299

Jiasen Zhang,   Hong Gao,   S. X. Dou,   Yong Zhu,   Peixian Ye,  

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4. Finite-element Maxwell’s equations modeling of etched air/dielectric Bragg mirrors
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  11,   1997,   Page  5300-5304

V. Berger,   I. Pavel,   E. Ducloux,   F. Lafon,  

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5. Finite laser beam size effects in thermal wave interferometry
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  11,   1997,   Page  5305-5311

L. Fabbri,   F. Cernuschi,  

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6. Consequences of asymmetric pumping in low pressure plasma processing reactors: A three-dimensional modeling study
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  11,   1997,   Page  5312-5320

Mark J. Kushner,  

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7. Spatial and temporal variations of CF andCF2radical densities in high-densityCF4plasmas studied by laser-induced fluorescence
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  11,   1997,   Page  5321-5326

C. Suzuki,   K. Sasaki,   K. Kadota,  

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8. Nitrogen and aluminum implantation in high resistivity silicon carbide
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  11,   1997,   Page  5327-5333

Deborah Dwight,   Mulpuri V. Rao,   O. W. Holland,   G. Kelner,   P. H. Chi,   J. Kretchmer,   M. Ghezzo,  

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9. Activation of electrical carriers in Zn-implanted InP by low-power pulsed-laser annealing
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  11,   1997,   Page  5334-5338

C. Pizzuto,   G. Zollo,   G. Vitali,   D. Karpuzov,   M. Kalitzova,  

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10. Characterization of residual defects in cubic silicon carbide subjected to hot-implantation and subsequent annealing
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  11,   1997,   Page  5339-5347

Hisayoshi Itoh,   Takeshi Ohshima,   Yasushi Aoki,   Koji Abe,   Masahito Yoshikawa,   Isamu Nashiyama,   Hajime Okumura,   Sadafumi Yoshida,   Akira Uedono,   Shoichiro Tanigawa,  

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