Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1996
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1. Use of an active wireB&thgr;cell for electron beam conditioning
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4249-4257

D. P. Murphy,   M. C. Myers,   D. J. Weidman,   J. A. Antoniades,   R. F. Fernsler,   R. A. Meger,  

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2. Emittance tailoring of electron beams for propagation in dense gas
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4258-4267

M. C. Myers,   R. F. Fernsler,   R. A. Meger,   J. A. Antoniades,   D. P. Murphy,   R. F. Hubbard,  

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3. Perturbative analytical solution of two‐wave coupling in photorefractive materials at large modulation depth
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4268-4273

Zhongxiang Zhou,   Yan Li,   Xiudong Sun,   Yongyuan Jiang,   Hua Zhao,   Kebin Xu,   Qiuyu Wan,  

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4. Focused bulk ultrasonic waves generated by ring‐shaped laser illumination and application to flaw detection
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4274-4281

Xiao Wang,   Michael G. Littman,   John B. McManus,   Mohsen Tadi,   Young Sik Kim,   Attila Askar,   Herschel Rabitz,  

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5. Transient processes in an Ar+I2dc discharge
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4282-4291

J. I. Ferna´ndez Palop,   J. Ballesteros,   V. Colomer,   M. A. Herna´ndez,  

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6. Simulations of multipactor‐assisted breakdown in radio frequency plasmas
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4292-4298

D. Vender,   H. B. Smith,   R. W. Boswell,  

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7. The use of carbides as electrode material in a pseudospark switch
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4299-4302

A. Go¨rtler,   A. Schwandner,   K. Frank,   J. Christiansen,  

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8. Lateral damage extension during masked ion implantation into GaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4303-4307

M. M. Faye,   C. Vieu,   G. Ben Assayag,   Ph. Salles,   A. Claverie,  

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9. Electron irradiation‐induced changes in the surface topography of silicon dioxide
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4308-4314

M. A. Stevens Kalceff,   M. R. Phillips,   A. R. Moon,  

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10. Annealing of irradiated epitaxial InP solar cells
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4315-4321

R. J. Walters,   S. R. Messenger,   H. L. Cotal,   G. P. Summers,  

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