Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1993
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1. Manipulation of van der Waals forces to improve image resolution in atomic‐force microscopy
  Journal of Applied Physics,   Volume  73,   Issue  9,   1993,   Page  4123-4129

Jeffrey L. Hutter,   John Bechhoefer,  

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2. Charge exchange of low energy ions in thin carbon foils. II. Results for ions of B, C, F, Ne, Na, Si, S, Cl, Ar, K, and Fe
  Journal of Applied Physics,   Volume  73,   Issue  9,   1993,   Page  4130-4139

Alfred Bu¨rgi,   Marc Gonin,   Michael Oetliker,   Peter Bochsler,   Johannes Geiss,   Thierry Lamy,   Ariel Brenac,   Horst Ju¨rgen Andra¨,   Philippe Roncin,   Henri Laurent,   Michael A. Coplan,  

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3. Stability and confinement of nonrelativistic sheet electron beams with periodic cusped magnetic focusing
  Journal of Applied Physics,   Volume  73,   Issue  9,   1993,   Page  4140-4155

John H. Booske,   Brian D. McVey,   Thomas M. Antonsen,  

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4. Gain and saturation parameters of a multichannel large‐area discharge CO2laser
  Journal of Applied Physics,   Volume  73,   Issue  9,   1993,   Page  4156-4161

E. F. Yelden,   H. J. J. Seguin,   C. E. Capjack,  

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5. Temperature dependence of dc drift of Ti:LiNbO3optical modulators with sputter deposited SiO2buffer layer
  Journal of Applied Physics,   Volume  73,   Issue  9,   1993,   Page  4162-4164

Hirotoshi Nagata,   Kazumasa Kiuchi,  

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6. Control of thermocapillary convection in a liquid bridge by vibration
  Journal of Applied Physics,   Volume  73,   Issue  9,   1993,   Page  4165-4170

A. V. Anilkumar,   R. N. Grugel,   X. F. Shen,   C. P. Lee,   T. G. Wang,  

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7. A Monte Carlo simulation model for plasma source ion implantation
  Journal of Applied Physics,   Volume  73,   Issue  9,   1993,   Page  4171-4175

Dezhen Wang,   Tengcai Ma,   Ye Gong,  

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8. Measurement of ion species ratio in the plasma source ion implantation process
  Journal of Applied Physics,   Volume  73,   Issue  9,   1993,   Page  4176-4180

B. Y. Tang,   R. P. Fetherston,   M. Shamim,   R. A. Breun,   A. Chen,   J. R. Conrad,  

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9. Simulation of electron‐beam transport in low‐pressure gas conditioning cells
  Journal of Applied Physics,   Volume  73,   Issue  9,   1993,   Page  4181-4196

Richard F. Hubbard,   Steven P. Slinker,   Richard F. Fernsler,   Glenn Joyce,   Martin Lampe,  

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10. Monte Carlo simulation of electron behavior in an electron cyclotron resonance discharge
  Journal of Applied Physics,   Volume  73,   Issue  9,   1993,   Page  4197-4204

S. C. Kuo,   E. E. Kunhardt,   S. P. Kuo,  

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