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Journal of Vacuum Science&Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena


ISSN: 1071-1023        年代：1992
当前卷期：Volume 10  issue 3     [ 查看所有卷期 ]

年代：1992
 
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31. Erratum: ‘‘Comparative study between gas‐ and liquid‐phase silylation for the diffusion‐enhanced silylated resist process’’ [J. Vac. Sci. Technol. B9, 3399 (1991)]
  Journal of Vacuum Science&Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena,   Volume  10,   Issue  3,   1992,   Page  1229-1229

Ki‐Ho Baik,   L. Van den hove,   B. Roland,  

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