摘要:

AbstractSome aspects of the theory of fluctuating microfield in a system of charged particles are considered. The question concerning regions of validity for Holtsmark‐like and Gauss‐like microfield distributions in a rarefied and a dense plasma is discussed. The influence of finite dimensions of particles (test particles as well as field particles) on the microfield distribution is investigated. Expressions for a “dynamic” (two‐time) generalization of the Holtsmark distribution are obtained for limiting cases. By methods of microfield theory certain formulas for the fluctuations of the electric charges within a finite volume of an electrolyte are de

ISSN:0005-8025    

DOI:10.1002/ctpp.19690090302

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1969

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractEs werden die aus der Theorie der positiven Säule errechneten Elektronenkonzentrationen sowohl mit denen nach der Doppelsondenmethode bestimmten als auch mit denen auf Grundlage der Messung der absoluten Intensität des Bremskontinuums berechneten Elektronen‐konzentrationen verglichen. Die Sondenmessungen führen zu erhöhten Konzentrationswerten, welche mit wachsendem Parameter p · R erheblich ans

ISSN:0005-8025    

DOI:10.1002/ctpp.19690090303

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1969

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractMit der Methode der “ambipolaren Effusion der Ladungsträger” werden Wandstrom‐untersuchungen an den stehenden weiten roten Einzelschichten der positiven Säule der Wasserstoffglimmentladung (RohrradiusR= 1,5 cm,p= 0,75 Torr,i= 5–20 mA) durchgeführt. Es zeigt sich eine Modulation der Ionen‐ und Elektronenwandstromdichte längs der Schicht, wobei der Ionenstrom neben dem Maximum am Schichtkopf noch ein 2. im Schichtrumpf aufweist. Möglichkeiten zur Entstehung dieses 2. Maximums sowie Probleme der Ambipolarität des Wandstromes werden diskutiert. Durch die massenspektrometrische Analyse konnten die Wasserstoffionen H3+, H+und H2+in einem Intensitätsverhältnis von etwa 103:102:1 fest‐gestellt werden. Der H+Anteil steigt im Bereich des leuchtenden Schichtkopfes an, was auf den höheren Dissoziationsgrad des Neutralgases zurückzuführen ist. Der Anstieg der H2+‐Komponentente im Dunkelraum vor dem Schichtrand ist hervorgerufen durch den Energiegewinn der H2+Ionen im Potentialsprung am Schichtrand, womit eine Verkleinerung des Wirkungsquerschnittes für die

ISSN:0005-8025    

DOI:10.1002/ctpp.19690090304

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1969

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractEs wird ein vereinfachtes Modell der positiven Säule studiert, in dem neben der ambipolaren Diffusion eine stark von der Elektronenkonzentrationneabhängige Ionisationsrate und einene2proportionale Volumenrekombination berücksichtigt werden. Die Berechnung der Radialprofile ergibt, daß die Volumenrekombination zu einer Verstärkung der ionisationsbedingten Säulenkontraktion führt. Die Bilanzgleichungen des Säulenplasmas gestatten zu ermitteln, in welchem Umfange sich die Volumenrekombination im charakteristischen Verhalten der Entladungssäule bemerkbar macht. Die Anwendung der Modellrechnungen auf den Fall der Argon‐Mitteldrucksäule läßt wenigstens fürRp<100 cm Torr noch keinen gesicherten Einfluß der Volumenrekombi

ISSN:0005-8025    

DOI:10.1002/ctpp.19690090305

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1969

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractAus spektroskopischen Messungen wurden die radialen Verteilungen der Temperatur und der Teilchenkonzentrationen in einem Helium‐Wasserstoff‐Impulsmischplasma (Impulsdauer 70 μs, Mischungsverhältnisse He:H = 10:1,5:1, 2:1 und 1:1) ermittelt. Die Achsentemperaturen lagen zwischen 5 · 104°K und 4.5 · 104°K bei Elektronendichten um 8 · 1016cm−3. Sowohl im achsennahen Gebiet als auch in der Randzone wurden Abweichungen vom Ausgangsmischungsverhältnis festgestellt. Zur Deutung der Entmischung im achsennahen Gebiet wurde die Reaktionsdiffusion nach Frie und Maecker herangezogen, während in der Randzone die Entmischung hauptsächlich durch die Thermodiffusion bestimmt wird. Die gemessenen Werte für die Entmischung sind mit den für den stationären Fall berechneten Werten in gut

ISSN:0005-8025    

DOI:10.1002/ctpp.19690090306

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1969

数据来源: WILEY

ISSN:0005-8025    

DOI:10.1002/ctpp.19690090301

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1969

数据来源: WILEY