1. |
Aufschwung in 1992? |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 4,
Issue 1,
1992,
Page 3-3
Johann Scherle,
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PDF (101KB)
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ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.2230040102
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1992
数据来源: WILEY
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2. |
Sorgen bereiten Stellenabbau und Abwanderung hochqualifizierter Fachleute |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 4,
Issue 1,
1992,
Page 7-8
Christian Edelmann,
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PDF (287KB)
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ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.2230040103
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1992
数据来源: WILEY
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3. |
Forschung/Entwicklung |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 4,
Issue 1,
1992,
Page 10-11
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PDF (239KB)
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ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.2230040104
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1992
数据来源: WILEY
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4. |
Produkte/Verfahren |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 4,
Issue 1,
1992,
Page 12-58
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PDF (1316KB)
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ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.2230040105
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1992
数据来源: WILEY
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5. |
Neue massenspektrometrische Methoden in der anorganischen Spurenanalytik |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 4,
Issue 1,
1992,
Page 15-20
Ulrich Greb,
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PDF (692KB)
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摘要:
AbstractIn nur fünf Jahren hat die Spurenanalyse mit ICP‐MS eine weite Verbreitung in analytischen Labors gefunden. Die Gründe dafür sind in der einfachen Handhabung, der Flexibilität der Anwendung und der Nachweisstärke bis unter 1 ppt zu suchen. Hochauflösende GD‐MS hat sich einen festen Platz in der Ultraspurenanalyse von hochreinen Metallen erobert, eine weitere Verbreitung in der Spurenanalytik hat aber erst kürzlich durch die Einführung von GD‐MS mit einem Quadrupolanalysator begonnen. Beide Methoden ergänzen sich vorzüglich und werden in der Kombination einen festen Platz im analytische
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.2230040106
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1992
数据来源: WILEY
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6. |
Plasmapolymerisation — Ein Verfahren für viele Anwendungen |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 4,
Issue 1,
1992,
Page 22-29
Jörn Leiber,
Martin Londschien,
Klaus Telgenbüscher,
Walter Michaeli,
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PDF (926KB)
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摘要:
AbstractDie Plasmapolymerisation ist ein relativ junges Vakuumbeschichtungsverfahren, welches sich durch vielfältige Schichteigenschaften auszeichnet. Aufgrund der geringen thermischen Belastung des Substrates eignet sie sich insbesondere zur Beschichtung von Kunststoffen. In diesem Beitrag wird das Verfahren anhand der Mikrowellen‐Plasmapoly‐merisation erläutert. Das Plasma, der Prozeß und der Anlagenaufbau werden beschrieben, bevor eine Übersicht über einige Anwendungen zeigt, wie vielseitig dieses Beschichtungsverfahren ist. Dabei werden Aspekte berücksichtigt, die für den industriellen Einsatz von Bedeutung sind. Hierzu gehören Beschichtungsabmessungen, Prozeßgeschwindigkeit und Wirtschaftlichkeit de
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.2230040107
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1992
数据来源: WILEY
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7. |
Vakuumsystem für den Hochenthalpie‐Windkanal |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 4,
Issue 1,
1992,
Page 30-32
Jürgen Steinmüller,
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PDF (364KB)
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摘要:
AbstractDas Institut für experimentelle Strömungsmechanik der DLR in Göttingen wurde mit der Aufgabe betraut, einen neuen (in Europa einzigartigen) Windkanal für die Untersuchung der Wiedereintrittsaerodynamik mit der Fähigkeit Hochenthalpieströmung für die Simulation der Realgaseffekte herzustellen.In Europa gibt es derzeit noch keine Möglichkeit, den hochinteressanten Simulationsbereich zu erforschen. Dies soll sich nun unter Zuhilfenahme von Vakuum
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.2230040108
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1992
数据来源: WILEY
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8. |
Dünnschichtanlagen zur Herstellung von flachen Bildschirmen |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 4,
Issue 1,
1992,
Page 35-39
Rainer Gegenwart,
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PDF (698KB)
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摘要:
AbstractDie Herstellung von flachen Bildschirmen erfordert Dünnschichtverfahren, die auch aus der Mikroelektronik bekannt sind. Ein wesentlicher Unterschied liegt jedoch in den Substratgrößen.Die Abscheidung von Metallen, Isolatoren und Halbleitern erfolgt mit Sputterund CVD Verfahren in großflächigen Durchlaufanlagen. Zur Strukturierung der Substrate mit Trockenätzverfahren werden statische Einzelsubstratanlagen einge
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.2230040109
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1992
数据来源: WILEY
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9. |
Graphische Symbole |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 4,
Issue 1,
1992,
Page 41-42
W. Jitschin,
U. Glasner,
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PDF (118KB)
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ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.2230040110
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1992
数据来源: WILEY
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10. |
Abprodukte und Abgasentsorgung von Fluor‐ und Chlorverbindungen aus plasmachemischen Prozessen |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 4,
Issue 1,
1992,
Page 43-54
H.‐J. Tiller,
J. Meyer,
D. Berg,
H.‐D. Bürger,
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PDF (1003KB)
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摘要:
AbstractPlasmaprozesse, die mit fluor‐ oder chlorhaltigen Prozeßgasen geführt werden und denen entweder in die Ausgangs mischung oder im Prozeßverlauf durch Reaktionen mit entsprechenden Substraten Kohlenstoffe zugefügt werden, können zur Bildung von ungesättigten Fluorkohlenstoffen bzw. im Falle von Chlor zu höhermolekularen aromatischen Chlorkohlenstoffen führen. Beide Produktarten führen durch Akkumulation an den Wänden der Vakuumanlage bzw. im Pumpenöl zu Mengen, die eine erhöhte Sicherheitsaufmerksamkeit verdienen. Neben der Diskussion der Bildungsbedingungen in Plasmen wurden Konzepte für die Entsorgung von Cl2und von Fluorkohlenstoffen vorgeschlagen. Beiden Verfahren liegen Hochtemperaturprozesse zugrunde. Im Falle des Chlors erweist sich ein Fe‐Reaktor im Vakuumsystem als sehr effizient. Für Fluorkohlenstoff wird ein Konzept einer Hochtemperaturreaktion auf der Druckseite der Vakuumapparatur vorgeschlagen und deren Wirksamkeit mit Hilfe gaschromatografischer Untersuchungen nachgewiesen.Friedrich‐Schiller‐Universität Jena, Chemische Fakultät, Institut für P
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.2230040111
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1992
数据来源: WILEY
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