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1. |
Nachruf auf Prof. Dr. Max Auwärter |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 8,
Issue 1,
1996,
Page 3-3
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PDF (157KB)
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ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19960080102
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1996
数据来源: WILEY
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2. |
Unternehmen und Personen |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 8,
Issue 1,
1996,
Page 6-10
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PDF (558KB)
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ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19960080103
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1996
数据来源: WILEY
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3. |
Sample Exposition System for Plasma Analysis of a Fusion Reactor |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 8,
Issue 1,
1996,
Page 13-16
C. Alessandrini,
M. L. Apicella,
L. Dalla Bella,
G. Maddaluno,
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PDF (443KB)
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摘要:
AbstractPlasma diagnosis of a fusion reactor can be performed by means of samples which first are exposed to the plasma and then investigated by surface analysis techniques. Construction and tests of such a diagnosis system are described. This system uses a demountable sample chamber in which the samples can be transported under UHV conditions to a distant laboratory for surface analysis.
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19960080104
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1996
数据来源: WILEY
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4. |
Ausrüstung einer Labor‐Aufdampfanlage für die Halbleitertechnik |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 8,
Issue 1,
1996,
Page 17-19
R. Reuschling,
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PDF (390KB)
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摘要:
AbstractModerne Verfahren der Halbleitertechnik stellen an herkömmliche Aufdampfanlagen besondere Anforderungen. Außer prozeßrelevanten Zusatzfunktionen wie z. B. Substrat‐Bias und Heizung, muß auch das Vakuumsystem — z. B. hinsichtlich Partikelminimierung — ergänzt werden. Eine solche Komplettlösung wird exemplarisch beschrieben.Standard‐Laborsysteme, wie sie von allen großen Vakuumfirmen angeboten werden, sind zumeist modular ausrüstbar und umfassen ein Spektrum an üblichem Zubehör wie Widerstandsverdampfer, Elektronenstrahlverdampfer, Schwingquarze, Heizer usw.Beim Einsatz einer solchen Anlage im Umfeld einer Halbleiterfertigung sind siagnifikante Umrüstungen erforderlich.Im folgenden wird anhand eines Beispiels beschrieben, wie eine klare Spezifikation des Anwenders und die Kompetenz des Anlagenbauers zu einem adäqua
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19960080105
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1996
数据来源: WILEY
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5. |
The X‐ray Facility at LAX in Palermo |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 8,
Issue 1,
1996,
Page 21-24
F. Celi,
L. Dalla Bella,
S. Ferrari,
S. Re,
G. Richiusa,
L. Scarsi,
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PDF (451KB)
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摘要:
AbstractA description is given of the X‐ray facility installed at LAX (Laboratorio per Sperimentazioni con Radiazioni X), jointly operated in Palermo by the DEAF (Department of Energy and Physics Applications) of the University of Palermo and the IFCAT (Institute of Cosmic Physics and Informatics) of the Italian National Research Council. The X‐rays are produced by bombarding a target with energized electrons up to 60 keV.Depending on the material of the target, characteristic fluorescence lines as well as continuous bremsstrahlung is emitted.The X‐ray beam has an operational energy range of 0,1–25 keV with a flux of 1010–1012photons/sr · s; the beam, collimated on a length of 10,5 m, has a diameter at full aperture of 200 mm with a divergence of 1°.The beam line consists of:the X‐ray generatorthe Beam Channelthe Sample Chamber with a table capable of translation along the X, Y and Z axes and rotation around Y and Zthe Detector Chamber with translation movements along the X and Y axes and rotation around Y.The X‐ray generator chamber operates at 10−9hPa, whereas the other parts operate at 10−6hPa.The beam line has been developed by RIAL Vacuum S.p.A. following the specification
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19960080106
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1996
数据来源: WILEY
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6. |
Chancen und Möglichkeiten der Plasmatechnologie: Eine Bestandsaufnahme |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 8,
Issue 1,
1996,
Page 25-30
J. Engemann,
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PDF (760KB)
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摘要:
AbstractNach einer vergleichsweise langen Latenzzeit gewinnt der technologische Einsatz von Nichtgleichgewichts‐ und Niedertemperaturplasmen zunehmend an Dynamik. In den Jahren zuvor wurde zwar die Eignung derartiger Plasmen als eine attraktive Option auf materialtechnologische Zukunftsfelder im Grundsatz aufgezeigt, jedoch waren beispielhafte und erfolgreiche Demonstratoren eher selten.Durch erhebliche Fortschritte im Grundlagenbereich, der Verfügbarkeit von leistungsfähigen Simulationswerkzeugen und Plasmaquellen einschließlich ihrer zugehörigen Diagnostiken konnte in sehr unterschiedlichen industriellen Anwendungsfeldern der prinzipielle Nachweis der „Tauglichkeit”︁ von plasmabasierten Verfahren erbracht werden. Dies erfolgte insbesondere auch unter Berücksichtigung von zum Teil sehr stringenten ökonomischen und ökologischen Randbedingungen. Ein erfolgreicher Transfer dieser Technologie in die industrielle Praxis erfordert jedoch mehr. Diese Aussage bezieht sich auf die Akzeptanz, Risikobereitschaft und Langzeitstrategie von Unternehmen, die in diesem Bereich im Interesse einer Stärkung ihrer Wettbewerbsfähigkeit tätig werden wollen.In diesem Beitrag werden nach einigen einleitenden grundlegenden Überlegungen der Querschnitts‐ und Schlüsselcharakter der Plasmatechnologie in sehr unterschiedlichen Bereichen an Beispielen aufgezeigt, sowie Ansätze zum Übertrag in
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19960080107
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1996
数据来源: WILEY
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7. |
Gasstrom, Teil 2: Weitere Meßverfahren, Kalibrierung |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 8,
Issue 1,
1996,
Page 32-34
W. Jitschin,
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PDF (312KB)
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ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19960080108
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1996
数据来源: WILEY
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8. |
Eine Thermovakuumkammer für die Weltraumsimulation |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 8,
Issue 1,
1996,
Page 36-42
U. Bergner,
R. Liebscher,
K.‐H. Engel,
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PDF (710KB)
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摘要:
AbstractFür die Prüfung von Baugruppen und Komponenten unter weltraumähnlichen Bedingungen wird eine Thermovakuumkammer genutzt. Die ölfreie und schwingungsarme Vakuumerzeugung bis zu einem Enddruck von 3.10−6mbar wird mittels Kryopumpe und LN2‐gekühltem Kryobaffle realisiert. Die Umgebungstemperatur wird durch rechnergesteuerte Shrouds im Bereich von 83 K bis 373 K realisiert. Temperierflächen simulieren den unmittelbaren thermischen Einfluß eigener oder fremder Wärmequellen auf den Prüfling. Ein optisches Fenster (auf der Bedienseite des Rezipienten) gestattet Messungen des Einflusses von Vakuum und Temperatur auf optische Parameter von Prüflingen. Für die Montage von Prüflingen bzw. Meßeinrichtungen zur optischen Messung dienen beidseitig von der Rezipiententür angebrachte optische Bänke.Die Montage der Prüflinge erfolgt von einem Reinraumlabor aus. Umfangreiche modular einsetzbare Meßtechnik zur optischen Prüfung und Simulierung sowie Temperatur‐ und Kontaminationsmeßtechnik stehen zur Verfügung. Die Möglichkeit des Anschlusses verschiedener elektrischer und Fluiddurchführungen gestatten die Anpassung an unterschiedlich Aufgabenstellungen. An Beispielen wir der bisherige Einsatz der Ther
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19960080109
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1996
数据来源: WILEY
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9. |
Produkte und Verfahren |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 8,
Issue 1,
1996,
Page 43-49
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PDF (1055KB)
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ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19960080110
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1996
数据来源: WILEY
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10. |
Forschung und Entwicklung |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 8,
Issue 1,
1996,
Page 51-52
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PDF (324KB)
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ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19960080111
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1996
数据来源: WILEY
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