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1. |
Überschall‐Plasmaströmungen im induktiv‐hydrodynamischen Stoßwellenrohr |
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Beiträge aus der Plasmaphysik,
Volume 15,
Issue 1,
1975,
Page 1-9
L. Rothhardt,
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摘要:
AbstractEs wird über die Arbeitsweise eines speziellen elektromagnetischen Stoßwellenrohres und über die Dynamik des Plasmas im Laufrohr berichtet. Dieses spezielle elektromagnetische Stoßwellenrohr wird als induktiv‐hydrodynamisches Stoßwellenrohr bezeichnet, weil die Energie‐Einspeisung über eine induktive, elektrodenlose Entladung erfolgt, das im Laufrohr strömende Plasma aber hydro‐dynamisch vom Elektronenpartialdruck getrieben wird.
Die wesentlichen Plasmaparameter wurden mit Hilfe eines speziellen Doppelsondensystems — Plasmaschlucker genannt — gemessen. Mit Hilfe der erhaltenen Werte kann abgeschätzt werden, daß sich das Plasma im Laufrohr wie eine homogene, expandierende Plasmasäule mit steiler und ebener Front verhält. Die von der Front bei der Akkumulation des Vorlandgases geleistete Arbeit wird wegen der Energiezuführung aus der Plasmaquelle durch Wärmeleitung im Elektronengas ohne merkliche Absenkung der Elektrone
ISSN:0005-8025
DOI:10.1002/ctpp.19750150102
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1975
数据来源: WILEY
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2. |
Untersuchungen zum Verhalten von Ionenschallwellen in Edelgas‐Niederdruckentladungen |
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Beiträge aus der Plasmaphysik,
Volume 15,
Issue 1,
1975,
Page 11-23
T. Föste,
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摘要:
AbstractIn der vorliegenden Arbeit wurden Untersuchungen an fremderregten Ionenschallwellen in der positiven Säule von Helium‐ und Argon‐Entladungen im Druckbereich von 10−3Torr bis 10−1Torr durchgeführt. Dabei wurde beobachtet, daß nur unterhalb eines bestimmten Grenzdruckes Ionenschallwellen auftreten, bei dem die mittlere freie Weglänge der Elektronen etwa gleich dem Rohrdurchmesser ist. Es erfolgte eine Bestimmung der Phasengeschwindigkeit der Ionenschallwellen und ein Vergleich mit theoretischen Werten. Bei der Messung der Dämpfung von Ionenschallwellen konnten Amplitudenoszillationen beobachtet werden. Mögliche Mechanismen werden diskutiert. Mit dem verwendeten Nachweisverfahren ist es möglich, die Lebensdauer angeregter Zustände zu bestimmen. Ein Test an jeweils einem optischen Übergang in Helium und in Argon ergab gute Übereinstimmung mit aus der Literatur
ISSN:0005-8025
DOI:10.1002/ctpp.19750150103
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1975
数据来源: WILEY
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3. |
Theory of the Ionization Equilibrium in Dense Semiconductor Plasmas |
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Beiträge aus der Plasmaphysik,
Volume 15,
Issue 1,
1975,
Page 25-33
G. P. Bartsch,
W. Ebeling,
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摘要:
AbstractThe semiconductor is considered as a plasma of electrons, donors and occupied acceptors in a homogeneous medium interacting by Coulomb's law. The mass action law for the ionization equilibrium of electrons and donors is formulated taking into account the interaction of the charges. The lowering of the ionization energy is calculated using the quantum statistical method of binary density matrices. By comparision with the experimental results of Debye and Conwell for the lowering of the ionization energy good agreement between theory and experiment was found. The limit of stability of the semiconductor state is investigated.
ISSN:0005-8025
DOI:10.1002/ctpp.19750150104
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1975
数据来源: WILEY
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4. |
Untersuchungen der kontrahierten Edelgassäule bei mittleren Drücken.I Verfahren zur Ermittlung der Plasmaparameter und ihrer Radialverteilungen |
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Beiträge aus der Plasmaphysik,
Volume 15,
Issue 1,
1975,
Page 35-45
D. Venzke,
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PDF (636KB)
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摘要:
AbstractPresented is a method to determine iteratively electron density, electron temperature, and gas temperature in medium pressure rare gas discharges. This method bases on the linear relationship between emission coefficient of continuum radiation and electron density according to electron‐atom‐bremsstrahlung. The radial profile of gas temperature is determined by solving the energy balance equation. The electron temperature is calculated from the reduced electric field strength and the degree of ionization. The received profiles and the values at axis permit to examine present theoretical conceptions and to estimate the influence of various elementary processes on discharge mechan
ISSN:0005-8025
DOI:10.1002/ctpp.19750150105
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1975
数据来源: WILEY
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5. |
Masthead |
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Beiträge aus der Plasmaphysik,
Volume 15,
Issue 1,
1975,
Page -
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PDF (20KB)
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ISSN:0005-8025
DOI:10.1002/ctpp.19750150101
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1975
数据来源: WILEY
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