AbstractFeldelektronenemission von Mikrospitzen auf ausgedehnten Metalloberflächen wurde im UHV mit Hilfe direkter Strommessungen und durch Emissionsmikroskopie untersucht. Weiterhin wurden Impulsentladungen im Subnanosekundengebiet durchgeführt und deren Einfluß auf die Feldemitter untersucht. Es wurde gefunden, daß Mikrospitzen aus dem Metalldampf entstehen, der in vorhergehenden Vakuumentladungen freigesetzt wird. Die Emissions‐mikroskopie zeigte, daß die Spitzen eine kristalline Struktur haben. Vakuumdurchschläge zerstören vorhandene Emitter und erzeugen zugleich neue. Durch Reduktion der Impuls‐länge unterhalb eines kritischen Wertes ist es bei Impulsentladungen möglich, die Erzeugung neuer Emitter zu verhindern. Dieser kritische Wert ist sehr scharf definiert. Bei hinreichender Überspannung