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Aktuelle Applikationsfelder der Hochleistungs‐Elektronenstrahltechnik

 

作者: P. Lenk,  

 

期刊: Vakuum in Forschung und Praxis  (WILEY Available online 1998)
卷期: Volume 10, issue 1  

页码: 29-31

 

ISSN:0947-076X

 

年代: 1998

 

DOI:10.1002/vipr.19980100108

 

出版商: WILEY‐VCH Verlag

 

数据来源: WILEY

 

摘要:

AbstractHochleistungs‐Elektronenstrahlen für industrielle Vakuumprozesse sind seit den sechziger Jahren bis in den MW‐Bereich verfügbar. In der Metallurgie der reaktiven und refraktären Metalle haben sie heute ihren festen Platz. Neue Applikationsfelder sind das Großflächenbeschichten von Metallbändern mit optischen Schichtsystemen sowie das Herstellen von Thermo‐Barriere‐Schichten für Gasturbinenkomponenten durch EB‐PVD‐Technologien (Electron Beam‐Physical Vapor Deposition). An der Vormachtstellung des Elektronenstrahls auf diesen Gebieten hat auch die Lasertechnik

 

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