Aktuelle Applikationsfelder der Hochleistungs‐Elektronenstrahltechnik
作者:
P. Lenk,
期刊:
Vakuum in Forschung und Praxis
(WILEY Available online 1998)
卷期:
Volume 10,
issue 1
页码: 29-31
ISSN:0947-076X
年代: 1998
DOI:10.1002/vipr.19980100108
出版商: WILEY‐VCH Verlag
数据来源: WILEY
摘要:
AbstractHochleistungs‐Elektronenstrahlen für industrielle Vakuumprozesse sind seit den sechziger Jahren bis in den MW‐Bereich verfügbar. In der Metallurgie der reaktiven und refraktären Metalle haben sie heute ihren festen Platz. Neue Applikationsfelder sind das Großflächenbeschichten von Metallbändern mit optischen Schichtsystemen sowie das Herstellen von Thermo‐Barriere‐Schichten für Gasturbinenkomponenten durch EB‐PVD‐Technologien (Electron Beam‐Physical Vapor Deposition). An der Vormachtstellung des Elektronenstrahls auf diesen Gebieten hat auch die Lasertechnik
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