AbstractDie fraktionierte Wiederholung der Verteilung von Zirkonium‐Hafnium‐rhodanid‐Gemischen zwischen Wasser und Äther führt bei guter Ausbeute rasch von Hf‐armen Ausgangsmaterialien über Anreicherungsprodukte bis zu Hafniumpräparaten hohen Reinheitsgrades. Man erhielt so z. B. aus einem Material mit 0,5% HfO2durch 6‐ bis 8‐stufige Fraktionierung 70–90proz. Präparate und bei 8‐stufiger Verteilung von 60–95proz. Material — unter nicht optimalen Bedingungen — ein HfO2‐Präparat von 99,6% Reinheit. Das Ergebnis stimmt mit dem überein, was nach den Untersuchungen der vorangehenden Abhandlung über den Trennungseffekt bei einstufiger Verteilung erwartet werden konnte.Die Wirksamkeit der Zr/Hf‐Trennung durch Verteilung wurde verglichen mit den Literaturangaben über die Leistung anderer Verfahren. Dieser Vergleich wurde ergänzt durch Versuche über die T